公开(公告)号：US20130224059A1

公开(公告)日：2013-08-29

申请号：US13849918

申请日：2013-03-25

申请人： Brad Lemon ,  Joseph Hirt ,  Timothy Welling ,  James G. Daily, III ,  David Meendering ,  Gary Rozak ,  Jerome O'Grady ,  Peter R. Jepson ,  Prabhat Kumar ,  Steven A. Miller ,  Rong-chein Richard Wu ,  David G. Schwarz

发明人： Brad Lemon ,  Joseph Hirt ,  Timothy Welling ,  James G. Daily, III ,  David Meendering ,  Gary Rozak ,  Jerome O'Grady ,  Peter R. Jepson ,  Prabhat Kumar ,  Steven A. Miller ,  Rong-chein Richard Wu ,  David G. Schwarz

IPC分类号： C23C14/34

CPC分类号： C23C14/3414 ,  B22F1/0003 ,  B22F3/16 ,  B22F3/162 ,  B22F3/24 ,  B22F5/006 ,  B22F2003/248 ,  B22F2301/20 ,  B22F2998/00 ,  B22F2998/10 ,  C21D8/0221 ,  C21D8/0247 ,  C22C1/045 ,  C22C27/04 ,  C22F1/18 ,  C23C14/14 ,  C23C14/3478 ,  C23C14/3485 ,  C23C14/35 ,  C23C14/46 ,  B22F3/172 ,  B22F3/20 ,  B22F3/04 ,  B22F3/10

摘要： In various embodiments, planar sputtering targets are produced by forming a billet at least by pressing molybdenum powder in a mold and sintering the pressed powder, working the billet to form a worked billet, heat treating the worked billet, working the worked billet to form a final billet, and heat treating the final billet.

摘要翻译： 在各种实施例中，平面溅射靶通过至少通过在模具中压制钼粉末并烧结压粉，加工坯料以形成加工的坯料，热处理加工的坯料，加工加工的坯料以形成 最终坯料，并对最终坯料进行热处理。

公开(公告)号：US08425833B2

公开(公告)日：2013-04-23

申请号：US13340973

申请日：2011-12-30

申请人： Brad Lemon ,  Joseph Hirt ,  Timothy Welling ,  James G. Daily, III ,  David Meendering ,  Gary Rozak ,  Jerome O'Grady ,  Peter R. Jepson ,  Prabhat Kumar ,  Steven A. Miller ,  Richard Wu ,  David G. Schwarz

发明人： Brad Lemon ,  Joseph Hirt ,  Timothy Welling ,  James G. Daily, III ,  David Meendering ,  Gary Rozak ,  Jerome O'Grady ,  Peter R. Jepson ,  Prabhat Kumar ,  Steven A. Miller ,  Richard Wu ,  David G. Schwarz

IPC分类号： B22F3/12 ,  B22F3/24 ,  B22F3/20 ,  C22C27/04

CPC分类号： C23C14/3414 ,  B22F1/0003 ,  B22F3/16 ,  B22F3/162 ,  B22F3/24 ,  B22F5/006 ,  B22F2003/248 ,  B22F2301/20 ,  B22F2998/00 ,  B22F2998/10 ,  C21D8/0221 ,  C21D8/0247 ,  C22C1/045 ,  C22C27/04 ,  C22F1/18 ,  C23C14/14 ,  C23C14/3478 ,  C23C14/3485 ,  C23C14/35 ,  C23C14/46 ,  B22F3/172 ,  B22F3/20 ,  B22F3/04 ,  B22F3/10

摘要： In various embodiments, tubular sputtering targets are produced by forming a tubular billet at least by pressing molybdenum powder in a mold and sintering the pressed molybdenum powder, working the tubular billet to form a worked billet, and heat treating the worked billet.

摘要翻译： 在各种实施方案中，管状溅射靶通过至少通过在模具中挤压钼粉末并烧结压制的钼粉末，加工管状坯料以形成加工的坯料并且对加工的坯料进行热处理而形成管状坯料来生产。

公开(公告)号：US20120189483A1

公开(公告)日：2012-07-26

申请号：US13340973

申请日：2011-12-30

申请人： Brad Lemon ,  Joseph Hirt ,  Timothy Welling ,  James G. Daily, III ,  David Meendering ,  Gary Rozak ,  Jerome O'Grady ,  Peter R. Jepson ,  Prabhat Kumar ,  Steven A. Miller ,  Richard Wu ,  David G. Schwarz

发明人： Brad Lemon ,  Joseph Hirt ,  Timothy Welling ,  James G. Daily, III ,  David Meendering ,  Gary Rozak ,  Jerome O'Grady ,  Peter R. Jepson ,  Prabhat Kumar ,  Steven A. Miller ,  Richard Wu ,  David G. Schwarz

IPC分类号： B22F3/12 ,  B22F3/24 ,  B22F3/20

CPC分类号： C23C14/3414 ,  B22F1/0003 ,  B22F3/16 ,  B22F3/162 ,  B22F3/24 ,  B22F5/006 ,  B22F2003/248 ,  B22F2301/20 ,  B22F2998/00 ,  B22F2998/10 ,  C21D8/0221 ,  C21D8/0247 ,  C22C1/045 ,  C22C27/04 ,  C22F1/18 ,  C23C14/14 ,  C23C14/3478 ,  C23C14/3485 ,  C23C14/35 ,  C23C14/46 ,  B22F3/172 ,  B22F3/20 ,  B22F3/04 ,  B22F3/10

摘要： In various embodiments, tubular sputtering targets are produced by forming a tubular billet at least by pressing molybdenum powder in a mold and sintering the pressed molybdenum powder, working the tubular billet to form a worked billet, and heat treating the worked billet.

摘要翻译： 在各种实施方案中，管状溅射靶通过至少通过在模具中挤压钼粉末并烧结压制的钼粉末，加工管状坯料以形成加工的坯料并且对加工的坯料进行热处理而形成管状坯料来生产。