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公开(公告)号：US20150175761A1
公开(公告)日：2015-06-25
申请号：US14576479
申请日：2014-12-19
发明人： Chang-Yong Nam , Jovan Kamcev , Charles T. Black , Robert Grubbs
IPC分类号： C08J7/12
CPC分类号： C08J7/123 , C08J2353/00 , G03F7/0002
摘要： Technologies are described for methods for producing a pattern of a material on a substrate. The methods may comprise receiving a patterned block copolymer on a substrate. The patterned block copolymer may include a first polymer block domain and a second polymer block domain. The method may comprise exposing the patterned block copolymer to a light effective to oxidize the first polymer block domain in the patterned block copolymer. The method may comprise applying a precursor to the block copolymer. The precursor may infuse into the oxidized first polymer block domain and generate the material. The method may comprise applying a removal agent to the block copolymer. The removal agent may be effective to remove the first polymer block domain and the second polymer block domain from the substrate, and may not be effective to remove the material in the oxidized first polymer block domain.
摘要翻译： 技术描述了用于在衬底上生产材料图案的方法。 所述方法可以包括在基材上接收图案化的嵌段共聚物。 图案化的嵌段共聚物可以包括第一聚合物嵌段结构域和第二聚合物嵌段结构域。 该方法可以包括将图案化的嵌段共聚物暴露于有效氧化图案化嵌段共聚物中第一聚合物嵌段结构域的光。 该方法可以包括将前体施加到嵌段共聚物上。 前体可以注入氧化的第一聚合物嵌段结构域并产生材料。 该方法可以包括将去除剂施加到嵌段共聚物上。 除去剂可能有效地从底物中除去第一聚合物嵌段结构域和第二聚合物嵌段结构域，并且可能不有效地除去氧化的第一聚合物嵌段结构域中的材料。
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公开(公告)号：US09221957B2
公开(公告)日：2015-12-29
申请号：US14576479
申请日：2014-12-19
发明人： Chang-Yong Nam , Jovan Kamcev , Charles T. Black , Robert Grubbs
CPC分类号： C08J7/123 , C08J2353/00 , G03F7/0002
摘要： Technologies are described for methods for producing a pattern of a material on a substrate. The methods may comprise receiving a patterned block copolymer on a substrate. The patterned block copolymer may include a first polymer block domain and a second polymer block domain. The method may comprise exposing the patterned block copolymer to a light effective to oxidize the first polymer block domain in the patterned block copolymer. The method may comprise applying a precursor to the block copolymer. The precursor may infuse into the oxidized first polymer block domain and generate the material. The method may comprise applying a removal agent to the block copolymer. The removal agent may be effective to remove the first polymer block domain and the second polymer block domain from the substrate, and may not be effective to remove the material in the oxidized first polymer block domain.
摘要翻译： 技术描述了用于在衬底上生产材料图案的方法。 所述方法可以包括在基材上接收图案化的嵌段共聚物。 图案化的嵌段共聚物可以包括第一聚合物嵌段结构域和第二聚合物嵌段结构域。 该方法可以包括将图案化的嵌段共聚物暴露于有效氧化图案化嵌段共聚物中第一聚合物嵌段结构域的光。 该方法可以包括将前体施加到嵌段共聚物上。 前体可以注入氧化的第一聚合物嵌段结构域并产生材料。 该方法可以包括将去除剂施加到嵌段共聚物上。 除去剂可能有效地从底物中除去第一聚合物嵌段结构域和第二聚合物嵌段结构域，并且可能不有效地除去氧化的第一聚合物嵌段结构域中的材料。
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