公开(公告)号：US20160111563A1

公开(公告)日：2016-04-21

申请号：US14875605

申请日：2015-10-05

Applicant: CALIFORNIA INSTITUTE OF TECHNOLOGY

Inventor： Harry A. ATWATER ,  Dennis CALLAHAN ,  Colton BUKOWSKY

IPC: H01L31/0236 ,  H01L31/0392

CPC classification number: H01L31/03923 ,  H01L31/02167 ,  H01L31/02363 ,  H01L31/02366 ,  H01L31/054 ,  H01L31/056 ,  H01L31/0749 ,  Y02E10/52 ,  Y02E10/541

Abstract: Photovoltaic structures are disclosed. The structures can comprise randomly or periodically structured layers, a dielectric layer to reduce back diffusion of charge carriers, and a metallic layer to reflect photons back towards the absorbing semiconductor layers. This design can increase efficiency of photovoltaic structures. The structures can be fabricated by nanoimprint.

Abstract translation: 公开了光伏结构。 该结构可以包括随机或周期性结构化的层，用于减少电荷载流子的反向扩散的电介质层，以及将光子反射回吸收半导体层的金属层。 这种设计可以提高光伏结构的效率。 结构可以通过纳米压印法制造。