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1.发明授权Photopolymerization compositions including maleimides and processes for using the same 失效包含马来酰亚胺的光聚合组合物及其使用方法公开(公告)号：US06555593B1
公开(公告)日：2003-04-29
申请号：US09240020
申请日：1999-01-29
申请人： Charles E. Hoyle , Rajamani Nagarajan , Christopher W. Miller , Shan Christopher Clark , E. Sonny Jönsson , Liying Shao
发明人： Charles E. Hoyle , Rajamani Nagarajan , Christopher W. Miller , Shan Christopher Clark , E. Sonny Jönsson , Liying Shao
IPC分类号： C08F250
摘要： Photopolymerization compositions which include maleimides and processes using the same are disclosed. Polymerization of compositions which include maleimides in combination with a benzophenone compound/hydrogen atom donor sensitizer system may be activated by irradiating the composition with radiation.
摘要翻译： 公开了包含马来酰亚胺的光聚合组合物及其使用方法。 包括马来酰亚胺与二苯甲酮化合物/氢原子供体敏化剂体系组合的组合物的聚合可以通过用辐射照射组合物来活化。
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公开(公告)号：US06855745B2
公开(公告)日：2005-02-15
申请号：US09972677
申请日：2001-10-08
IPC分类号： C07D207/44 , C08F2/46 , C08F2/50 , C08F220/00 , C08F220/52
CPC分类号： C07D207/44 , C08F2/50
摘要： Aliphatic maleimides and methods using the same are disclosed. Polymerization of compositions which include the compounds of the invention may be activated by irradiating the composition with radiation.
摘要翻译： 公开了脂肪族马来酰亚胺及其使用方法。 包括本发明化合物的组合物的聚合可以通过用辐射照射组合物来活化。
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公开(公告)号：US06369124B1
公开(公告)日：2002-04-09
申请号：US09348804
申请日：1999-07-07
IPC分类号： C08F246
CPC分类号： C07D207/44 , C08F2/50
摘要： Aliphatic maleimides and methods using the same are disclosed. Polymerization of compositions which include the compounds of the invention may be activated by irradiating the composition with radiation.
摘要翻译： 公开了脂肪族马来酰亚胺及其使用方法。 包括本发明化合物的组合物的聚合可以通过用辐射照射组合物来活化。
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公开(公告)号：US6034150A
公开(公告)日：2000-03-07
申请号：US917024
申请日：1997-08-22
CPC分类号： C07D207/44 , C08F2/50
摘要： Aliphatic maleimides and methods using the same are disclosed. Polymerization of compositions which include the compounds of the invention may be activated by irradiating the composition with radiation in the absence of a photoinitiator.
摘要翻译： 公开了脂肪族马来酰亚胺及其使用方法。 包括本发明化合物的组合物的聚合可以通过在不存在光引发剂的情况下用辐射照射组合物来活化。
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公开(公告)号：US07442675B2
公开(公告)日：2008-10-28
申请号：US10864394
申请日：2004-06-10
申请人： Shigeru Yokoi , Kazumasa Wakiya , Takayuki Haraguchi , Makarem A. Hussein , Lana I. Jong , Shan Christopher Clark
发明人： Shigeru Yokoi , Kazumasa Wakiya , Takayuki Haraguchi , Makarem A. Hussein , Lana I. Jong , Shan Christopher Clark
CPC分类号： G03F7/425 , C11D7/06 , C11D7/267 , C11D7/32 , C11D7/34 , C11D7/5004 , C11D11/0047 , H01L21/02063 , H01L21/31133
摘要： A cleaning composition comprises at least quaternary ammonium hydroxide, a water-soluble organic solvent, water, an anticorrosive, and potassium hydroxide of 1 mass percent or less of a total amount of the solution. This cleaning composition can singly and effectively remove a photoresist film, a buried material, a metallic residue from the surface of a semiconductor substrate.
摘要翻译： 洗涤剂组合物至少包含季铵氢氧化物，水溶性有机溶剂，水，防腐剂和氢氧化钾的总量的1质量％以下。 该清洁组合物可以从半导体衬底的表面单独且有效地除去光致抗蚀剂膜，掩埋材料，金属残留物。
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