公开(公告)号：US20160193756A1

公开(公告)日：2016-07-07

申请号：US15072640

申请日：2016-03-17

申请人： DAIKIN INDUSTRIES, LTD.

发明人： Akihiro OSHIMA ,  Seiichi TAGAWA ,  Masakazu WASHIO ,  Tomoko OYAMA ,  Tomohiro TAKAHASHI ,  Satoshi OKUBO ,  Akinobu KOBAYASHI ,  Naotsugu NAGASAWA ,  Mitsumasa TAGUCHI

IPC分类号： B29C35/08 ,  B29C39/38 ,  B29C39/02

CPC分类号： B29C35/0866 ,  B29C39/026 ,  B29C39/38 ,  B29C2035/0844 ,  B29C2035/085 ,  B29C2035/0872 ,  B29C2035/0877 ,  B29C2035/0883 ,  B29K2027/18 ,  B29L2031/767 ,  B81C99/0085 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002 ,  Y10T428/24479

摘要： There are provided a microstructural material allowing a concavo-convex pattern of a mold to be imprinted thereon by hardening a pattern formative layer through an unprecedented method, and a fabrication method thereof. A PTFE dispersion liquid is used in a pattern formative layer 2a forming an imprint section 2, thereby allowing such pattern formative layer 2a formed on a concavo-convex pattern of a mold 5 to be hardened when irradiated with an ionizing radiation. Accordingly, the fabrication method of a microstructural material 1 of the present invention employs an imprinting method allowing the pattern formative layer 2a to be hardened through an ionizing radiation R, which is completely different from a thermal imprinting and an optical imprinting. That is, the pattern formative layer 2a can be hardened, and the concavo-convex pattern of the mold 5 can thus be imprinted thereon, through an unprecedented method.

摘要翻译： 提供了通过前所未有的方法硬化图案形成层，允许模具的凹凸图案印刷在其上的微结构材料及其制造方法。 在形成压印部分2的图案形成层2a中使用PTFE分散液，从而允许在用电离辐射照射时使形成在模具5的凹凸图案上的图案形成层2a硬化。 因此，本发明的微结构材料1的制造方法采用压印方法，允许图案形成层2a通过与热压印和光学印记完全不同的电离辐射R硬化。 也就是说，图案形成层2a可以被硬化，并且可以通过前所未有的方法将模具5的凹凸图案印刷在其上。