公开(公告)号：US20130107190A1

公开(公告)日：2013-05-02

申请号：US13368559

申请日：2012-02-08

申请人： Da-Ren CHIOU ,  Tzu-Ying CHEN ,  Wei-Che HUNG ,  De-Ling HSU ,  Chiu-Fang CHEN

发明人： Da-Ren CHIOU ,  Tzu-Ying CHEN ,  Wei-Che HUNG ,  De-Ling HSU ,  Chiu-Fang CHEN

IPC分类号： G02F1/13 ,  B29C65/14

CPC分类号： B29D11/0074 ,  B32B33/00 ,  B32B2307/40 ,  G02B5/3016 ,  G02F1/133788

摘要： A method of preparing a composite optical retarder is provided. A first and a second liquid crystal coating materials are respectively disposed on opposite surfaces of a photoalignment film to respectively form a first and a second optical retarders. The composite optical retarder having the photoalignment film sandwiched by the first and the second optical retarders is thus obtained.

摘要翻译： 提供一种制备复合光学延迟器的方法。 第一和第二液晶涂层材料分别设置在光取向膜的相对表面上，以分别形成第一和第二光学延迟器。 由此获得具有被第一和第二光学延迟器夹持的光
取向膜的复合光学延迟器。

公开(公告)号：US20130064985A1

公开(公告)日：2013-03-14

申请号：US13618008

申请日：2012-09-14

申请人： Da-Ren CHIOU ,  Wei-Che HUNG ,  Chiu-Fang CHEN ,  Yu-June WU

发明人： Da-Ren CHIOU ,  Wei-Che HUNG ,  Chiu-Fang CHEN ,  Yu-June WU

IPC分类号： B05D3/06

CPC分类号： C08F2/46 ,  G02B5/3083 ,  G02B27/26 ,  G02F2001/133633 ,  G03F7/027 ,  G03F7/038 ,  G03F7/2016 ,  G03F7/2022

摘要： A method for making a retarder includes: (a) forming a photocurable layer on a substrate, the photocurable layer including at least one photocurable prepolymer that has a plurality of reactive functional groups and a functional group equivalent weight ranging from 70 to 700 g/mol; (b) covering partially the photocurable layer using a patterned mask; (c) exposing the photocurable layer through the patterned mask; (d) removing the patterned mask; (e) exposing the photocurable layer to cure second regions of the photocurable layer so as to form a microstructure; (f) forming an alignment layer on the microstructure; (g) forming a liquid crystal layer on the alignment layer; and (h) curing the liquid crystal layer.

摘要翻译： 一种制造缓凝剂的方法包括：（a）在基材上形成光固化层，所述光固化层包含至少一种具有多个反应性官能团和官能团当量为70〜700g / mol的光固化性预聚物 ; （b）使用图案化掩模部分地覆盖光固化层; （c）将光固化层曝光通过图案化掩模; （d）去除图案化掩模; （e）使光固化层曝光以固化光固化层的第二区域以形成微结构; （f）在所述微观结构上形成取向层; （g）在取向层上形成液晶层; 和（h）固化液晶层。