公开(公告)号：US20110100546A1

公开(公告)日：2011-05-05

申请号：US12773483

申请日：2010-05-04

申请人： Dae-Hwan JANG ,  Gug-Rae JO ,  Hong-Suk YOO ,  Chang-Hoon KIM ,  Min-Uk KIM ,  Joo-Han BAE ,  Bo-Kyoung AHN

发明人： Dae-Hwan JANG ,  Gug-Rae JO ,  Hong-Suk YOO ,  Chang-Hoon KIM ,  Min-Uk KIM ,  Joo-Han BAE ,  Bo-Kyoung AHN

IPC分类号： B32B38/14 ,  B05D5/12 ,  C09K19/00

CPC分类号： C09K19/02 ,  B32B2307/72 ,  B32B2309/02 ,  B32B2457/202

摘要： A liquid crystal layer is formed by coating a liquid crystal material having a reciprocal (Z−1) of an Ohnesorge number in a range of 4≦Z−1≦14 by an ink-jet printing method. The reciprocal (Z−1) of the Ohnesorge number is a dimensionless number defined as Z−1=([σρL]1/2)/μ.

摘要翻译： 通过喷墨印刷法，将具有Ohnesorge数的倒数（Z-1）的液晶材料涂布在4＆lt; 1E; Z-1＆nlE; 14的范围内来形成液晶层。 Ohnesorge数的倒数（Z-1）是一个无量纲数，定义为Z-1 =（[＆sgr;＆rgr; L] 1/2）/μ。

公开(公告)号：US20110124152A1

公开(公告)日：2011-05-26

申请号：US12829977

申请日：2010-07-02

申请人： Bo-Kyoung AHN ,  Seon-Pil Jang ,  Gug-Rae Jo ,  Hong-Suk Yoo ,  Chang-Hoon Kim ,  Min-Uk Kim ,  Ju-Han Bae

发明人： Bo-Kyoung AHN ,  Seon-Pil Jang ,  Gug-Rae Jo ,  Hong-Suk Yoo ,  Chang-Hoon Kim ,  Min-Uk Kim ,  Ju-Han Bae

IPC分类号： H01L21/36

CPC分类号： H01L21/02628 ,  C23C18/1212 ,  C23C18/1216 ,  C23C18/14 ,  H01L21/02554 ,  H01L21/02565 ,  H01L21/02614 ,  H01L21/268 ,  H01L27/1225 ,  H01L29/7869

摘要： A method of manufacturing a semiconductor for a transistor that includes forming a precursor layer by coating a surface of an insulation substrate with a precursor solution for an oxide semiconductor, forming an oxide semiconductor by oxidizing a portion of the precursor layer, and removing a remaining precursor layer except for the oxide semiconductor.

摘要翻译： 一种制造用于晶体管的半导体的方法，其包括通过用氧化物半导体的前体溶液涂覆绝缘基板的表面来形成前体层，通过氧化前体层的一部分形成氧化物半导体，以及除去剩余的前体 除了氧化物半导体。

公开(公告)号：US20120088196A1

公开(公告)日：2012-04-12

申请号：US13071962

申请日：2011-03-25

申请人： Bo-Kyoung AHN ,  Hong-Suk YOO ,  Chang-Hoon KIM

发明人： Bo-Kyoung AHN ,  Hong-Suk YOO ,  Chang-Hoon KIM

IPC分类号： G03F7/20 ,  G03B27/72

CPC分类号： G03F7/70066

摘要： An exposure apparatus includes a mask, a substrate which passes through a region disposed below the mask while moving in a first direction, a light source unit disposed above the mask, where the light source irradiates light on the substrate through the mask, and at least one blind disposed below the light source unit, where the blind blocks the light irradiated from the light source unit, where a second direction is perpendicular to the first direction in a same plane as the first direction, the blind is a polyhedron having a width, a length and a thickness and is disposed such that a direction of the length is substantially parallel to the second direction, and the blind is rotatable around a rotation axis substantially parallel to the second direction, and where the width is greater than the thickness.

摘要翻译： 曝光装置包括掩模，在第一方向移动时穿过掩模下方的区域的基板，设置在掩模上方的光源单元，其中光源通过掩模将光照射在基板上，并且至少 一个盲设置在所述光源单元下方，其中所述盲区阻挡从所述光源单元照射的光，其中第二方向在与所述第一方向相同的平面中垂直于所述第一方向，所述盲是具有宽度的多面体， 长度和厚度被布置成使得长度方向基本上平行于第二方向，并且盲板可绕基本平行于第二方向的旋转轴线旋转，并且其中宽度大于厚度。