公开(公告)号：US20070248875A1

公开(公告)日：2007-10-25

申请号：US11379523

申请日：2006-04-20

申请人： Dennis O'Brien ,  Alison Schmoeckel ,  George Vernstrom ,  Radoslav Atanasoski ,  Thomas Wood ,  Ruizhi Yang ,  E. Easton ,  Jeffrey Dahn ,  David O'Neill

发明人： Dennis O'Brien ,  Alison Schmoeckel ,  George Vernstrom ,  Radoslav Atanasoski ,  Thomas Wood ,  Ruizhi Yang ,  E. Easton ,  Jeffrey Dahn ,  David O'Neill

IPC分类号： H01M4/96 ,  H01M4/90

CPC分类号： H01M4/96 ,  H01M4/8867 ,  H01M4/8882 ,  H01M4/90 ,  H01M4/9083 ,  H01M8/1004 ,  Y02P70/56

摘要： An oxygen-reducing catalyst layer, and a method of making the oxygen-reducing catalyst layer, where the oxygen-reducing catalyst layer includes a catalytic material film disposed on a substrate with the use of physical vapor deposition and thermal treatment. The catalytic material film includes a transition metal that is substantially free of platinum. At least one of the physical vapor deposition and the thermal treatment is performed in a processing environment comprising a nitrogen-containing gas.

摘要翻译： 一种氧还原催化剂层以及一种制造氧还原催化剂层的方法，其中氧还原催化剂层包括使用物理气相沉积和热处理设置在基板上的催化材料膜。 催化材料膜包括基本上不含铂的过渡金属。 在包含含氮气体的处理环境中进行物理气相沉积和热处理中的至少一种。

公开(公告)号：US07906251B2

公开(公告)日：2011-03-15

申请号：US11379523

申请日：2006-04-20

申请人： Dennis P. O'Brien ,  Alison K. Schmoeckel ,  George D. Vernstrom ,  Radoslav Atanasoski ,  Thomas E. Wood ,  Ruizhi Yang ,  E. Bradley Easton ,  Jeffrey R. Dahn ,  David G. O'Neill

发明人： Dennis P. O'Brien ,  Alison K. Schmoeckel ,  George D. Vernstrom ,  Radoslav Atanasoski ,  Thomas E. Wood ,  Ruizhi Yang ,  E. Bradley Easton ,  Jeffrey R. Dahn ,  David G. O'Neill

IPC分类号： H01M4/02

CPC分类号： H01M4/96 ,  H01M4/8867 ,  H01M4/8882 ,  H01M4/90 ,  H01M4/9083 ,  H01M8/1004 ,  Y02P70/56

摘要： An oxygen-reducing catalyst layer, and a method of making the oxygen-reducing catalyst layer, where the oxygen-reducing catalyst layer includes a catalytic material film disposed on a substrate with the use of physical vapor deposition and thermal treatment. The catalytic material film includes a transition metal that is substantially free of platinum. At least one of the physical vapor deposition and the thermal treatment is performed in a processing environment comprising a nitrogen-containing gas.

摘要翻译： 一种氧还原催化剂层及其制造方法，其中氧还原催化剂层包括使用物理气相沉积和热处理设置在基板上的催化材料膜。 催化材料膜包括基本上不含铂的过渡金属。 在包含含氮气体的处理环境中进行物理气相沉积和热处理中的至少一种。

公开(公告)号：US08836900B2

公开(公告)日：2014-09-16

申请号：US13326742

申请日：2011-12-15

申请人： Ruizhi Yang ,  Jun Hwan Lim ,  Weiyun Huang

发明人： Ruizhi Yang ,  Jun Hwan Lim ,  Weiyun Huang

IPC分类号： G02F1/1335

CPC分类号： G02F1/134309 ,  G02F1/134363 ,  G02F2001/134318 ,  G02F2201/52

摘要： Disclosed are an array substrate and a liquid crystal display device. The array substrate comprises a base substrate, and data lines and gate lines, which are orthogonal to each other to define a plurality of pixel units, formed in a pixel region of the base substrate, with each of the pixel units comprising a switching element, a pixel electrode and a common electrode that is overlapped with the pixel electrode. The common electrode in each of the pixel units comprises slits, and the slits have a shape of curved line and are parallel to each other so as to form a slit region in the common electrode; and the pattern profile of the pixel electrode is parallel to the profile of the slit region of the common electrode.

摘要翻译： 公开了阵列基板和液晶显示装置。 阵列基板包括基底基板，以及数据线和栅极线，它们彼此正交以限定形成在基底基板的像素区域中的多个像素单元，每个像素单元包括开关元件， 像素电极和与像素电极重叠的公共电极。 每个像素单元中的公共电极包括狭缝，并且狭缝具有曲线形状并且彼此平行，以在公共电极中形成狭缝区域; 并且像素电极的图案轮廓平行于公共电极的狭缝区域的轮廓。