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    Etchants containing filterable surfactant
    1.
    发明授权
    Etchants containing filterable surfactant 失效
    含有可过滤表面活性剂的溶剂

    公开(公告)号：US07112289B2

    公开(公告)日：2006-09-26

    申请号：US10984649

    申请日：2004-11-09

    申请人： Erik Mori ,  Brian Hong ,  James Craig

    发明人： Erik Mori ,  Brian Hong ,  James Craig

    IPC分类号： C09K13/00

    CPC分类号： C09K13/08

    摘要： An improved etching and cleaning composition for semiconductor devices is provided in which the etch solution incorporates a novel surfactant comprising a combination of a linear perfluorocarboxylic acid, a cyclic amine and an aliphatic alcohol.

    摘要翻译： 提供了一种用于半导体器件的改进的蚀刻和清洁组合物，其中蚀刻溶液结合了包含线性全氟羧酸，环胺和脂族醇的组合的新型表面活性剂。

    Filterable Surfactant Composition
    2.
    发明申请
    Filterable Surfactant Composition 失效
    可过滤表面活性剂组合物

    公开(公告)号：US20070075290A1

    公开(公告)日：2007-04-05

    申请号：US11420742

    申请日：2006-05-27

    申请人： Erik Mori ,  Brian Hong ,  James Craig

    发明人： Erik Mori ,  Brian Hong ,  James Craig

    IPC分类号： C09K13/00 ,  C09K13/06

    CPC分类号： C09K13/08

    摘要： An improved aqueous soluble surfactant which has particular utility for incorporating in etchants for semiconductor devices is provided. The surfactant comprises a combination of a linear perfluorocarboxylic acid, a cyclic amine and an aliphatic alcohol.

    摘要翻译： 提供了一种改进的水溶性表面活性剂，其特别适用于掺入用于半导体器件的蚀刻剂中。 表面活性剂包括直链全氟羧酸，环胺和脂族醇的组合。