公开(公告)号：US09123584B2

公开(公告)日：2015-09-01

申请号：US14072406

申请日：2013-11-05

Applicant: FIRST SOLAR, INC.

Inventor： Arnold Allenic ,  Stephan Paul George, II ,  Sreenivas Jayaraman ,  Oleh Petro Karpenko ,  Chong Lim

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/66 ,  G01B11/06 ,  G01N21/84

CPC classification number: H01L22/12 ,  G01B11/0683 ,  G01N21/8422 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/00

Abstract: A metrology system for gauging and spatially mapping a semiconductor material on a substrate can be used in controlling deposition and thermal activation processes.

Abstract translation: 用于在衬底上测量和空间映射半导体材料的计量系统可用于控制沉积和热激活过程。

公开(公告)号：US20140065731A1

公开(公告)日：2014-03-06

申请号：US14072406

申请日：2013-11-05

Applicant: FIRST SOLAR, INC

Inventor： Arnold Allenic ,  Stephan Paul George, II ,  Sreenivas Jayaraman ,  Oleh Petro Karpenko ,  Chong Lim

IPC: H01L21/66

CPC classification number: H01L22/12 ,  G01B11/0683 ,  G01N21/8422 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/00

Abstract: A metrology system for gauging and spatially mapping a semiconductor material on a substrate can be used in controlling deposition and thermal activation processes.

Abstract translation: 用于在衬底上测量和空间映射半导体材料的计量系统可用于控制沉积和热激活过程。