公开(公告)号：US20140248442A1

公开(公告)日：2014-09-04

申请号：US14117538

申请日：2012-05-22

申请人： Frédéric Luizi ,  Tiberiu Marian Minea ,  Stéphane Lucas ,  Julien Amadou ,  Anna Usoltseva ,  Christophe Rigaux

发明人： Frédéric Luizi ,  Tiberiu Marian Minea ,  Stéphane Lucas ,  Julien Amadou ,  Anna Usoltseva ,  Christophe Rigaux

IPC分类号： C23C16/44 ,  C23C16/50

CPC分类号： C23C16/4417 ,  B01J19/088 ,  B01J2219/0869 ,  B01J2219/0879 ,  B82Y30/00 ,  B82Y40/00 ,  C01B32/174 ,  C01B32/20 ,  C01B33/18 ,  C01B33/40 ,  C01B2202/06 ,  C23C16/50 ,  D06M10/025 ,  D06M2101/40

摘要： The present invention is related to a continuous method for the functionalization of a pulverulent product in a plasma reactor comprising the steps of:—generating a plasma in a vertical reactor;—bringing the pulverulent product in contact with said plasma by letting said particles fall by gravity from top to bottom trough said reactor. The present invention also discloses an instalation for performing the functionalization method.

摘要翻译： 本发明涉及一种在等离子体反应器中对粉状产物进行功能化的连续方法，包括以下步骤：在垂直反应器中产生等离子体; - 通过使所述颗粒落下而使所述粉末产物与所述等离子体接触 重力从顶部到底部通过所述反应器。 本发明还公开了一种用于进行功能化方法的安装。

公开(公告)号：US06485615B1

公开(公告)日：2002-11-26

申请号：US08225942

申请日：1994-04-11

申请人： René Winand ,  Stéphane Lucas ,  Pierre Vanden Brande ,  Alain Weymeersch ,  Lucien Renard

发明人： René Winand ,  Stéphane Lucas ,  Pierre Vanden Brande ,  Alain Weymeersch ,  Lucien Renard

IPC分类号： C23C1434

CPC分类号： C23C14/3414 ,  C23C14/34 ,  C23C14/562

摘要： A process of depositing a coating (5) onto a substrate (3) by reactive sputtering in a closed chamber (1) in the presence of a plasma of a non-reactive gas, and a reactive gas containing the element or elements said coating has to be made of, according to which process use is made of a target (2) having a surface layer (4) directed towards the substrate and containing at least one of the elements to be sputter deposited onto this substrate, according to which process the thickness of said surface layer (4) during the cathode sputtering is controlled by adjusting the concentration of the gases in said closed chamber (1). The single figure.

摘要翻译： 在非反应性气体的等离子体存在下，在封闭室（1）中反应溅射将涂层（5）沉积到衬底（3）上的过程以及包含所述元件或所述涂层的反应性气体的方法具有 根据哪个方法制成具有指向基板的表面层（4）的目标（2），并且包含要溅射沉积到该基板上的至少一个元素，根据该方法， 通过调节所述封闭室（1）中的气体浓度来控制阴极溅射期间所述表面层（4）的厚度。 单身人士。