公开(公告)号：US07867698B2

公开(公告)日：2011-01-11

申请号：US12122866

申请日：2008-05-19

申请人： Gek Soon Chua ,  Sia Kim Tan ,  Byoung-IL Choi ,  Ryan Chong ,  Martin Yeo

发明人： Gek Soon Chua ,  Sia Kim Tan ,  Byoung-IL Choi ,  Ryan Chong ,  Martin Yeo

IPC分类号： G03C5/00

CPC分类号： G03F1/50

摘要： A reticle system that includes: providing a reticle system; and assigning two or more of an image pattern onto the reticle system to form one or more layers of an integrated circuit system by grouping and pairing each of the image pattern onto the reticle system according to a multi-layer reticle grouping/pairing flow.

摘要翻译： 一种掩模版系统，其包括：提供掩模版系统; 以及通过根据多层标线组分组/配对流将图像图案中的每一个分组并配对到光罩系统上，将两个或多个图像图案分配到标线系统上以形成集成电路系统的一个或多个层。

公开(公告)号：US20090284721A1

公开(公告)日：2009-11-19

申请号：US12122866

申请日：2008-05-19

申请人： Gek Soon Chua ,  Sia Kim Tan ,  Byoung-IL Choi ,  Ryan Chong ,  Martin Yeo

发明人： Gek Soon Chua ,  Sia Kim Tan ,  Byoung-IL Choi ,  Ryan Chong ,  Martin Yeo

IPC分类号： G03B27/42 ,  G03F7/22

CPC分类号： G03F1/50

摘要： A reticle system that includes: providing a reticle system; and assigning two or more of an image pattern onto the reticle system to form one or more layers of an integrated circuit system by grouping and pairing each of the image pattern onto the reticle system according to a multi-layer reticle grouping/pairing flow.

摘要翻译： 一种掩模版系统，其包括：提供掩模版系统; 以及通过根据多层标线组分组/配对流将图像图案中的每一个分组并配对到光罩系统上，将两个或多个图像图案分配到标线系统上以形成集成电路系统的一个或多个层。