公开(公告)号：US20120052438A1

公开(公告)日：2012-03-01

申请号：US13117032

申请日：2011-05-26

申请人： Cha-Dong KIM ,  Sang-Hyun Yun ,  Jung-In Park ,  Hi-Kuk Lee ,  Deok-Man Kang ,  Youn-Suk Kim ,  Sae-Tae Oh

发明人： Cha-Dong KIM ,  Sang-Hyun Yun ,  Jung-In Park ,  Hi-Kuk Lee ,  Deok-Man Kang ,  Youn-Suk Kim ,  Sae-Tae Oh

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F7/022 ,  G03F7/0236

摘要： A photoresist composition and method of forming pattern using the same are provided. The photoresist composition contains an alkali-soluble novolac resin, a photosensitizer including a compound of Chemical Formula 1, and a solvent.

摘要翻译： 提供光致抗蚀剂组合物和使用其形成图案的方法。 光致抗蚀剂组合物含有碱溶性酚醛清漆树脂，包括化学式1的化合物的光敏剂和溶剂。

公开(公告)号：US08652749B2

公开(公告)日：2014-02-18

申请号：US13037212

申请日：2011-02-28

申请人： Hi-Kuk Lee ,  Sang-Hyun Yun ,  Cha-Dong Kim ,  Jung-In Park ,  Deok-Man Kang ,  Youn-Suk Kim ,  Sae-Tae Oh

发明人： Hi-Kuk Lee ,  Sang-Hyun Yun ,  Cha-Dong Kim ,  Jung-In Park ,  Deok-Man Kang ,  Youn-Suk Kim ,  Sae-Tae Oh

IPC分类号： G03F7/023 ,  G03F7/30

CPC分类号： G03F7/30 ,  G03F7/022 ,  G03F7/0236 ,  H01L27/1288 ,  H01L29/41733

摘要： A photoresist composition is provided. The photoresist composition includes an alkali-soluble resin; a photosensitizer containing a first compound that contains a diazonaphthoquinone represented by Formula 1 and a second compound that contains a diazonaphthoquinone represented by Formula 2; and a solvent. and R1 is selected from the group consisting of a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbons, an alkenyl group having 2 to 4 carbons, a cycloalkyl group having 3 to 8 carbons, and an aryl group having 6 to 12 carbons, and R2 is selected from the group consisting of Cl, F, Br, and I.

摘要翻译： 提供光致抗蚀剂组合物。 光致抗蚀剂组合物包括碱溶性树脂; 含有含有由式1表示的重氮萘醌的第一化合物和含有由式2表示的重氮萘醌的第二化合物的光敏剂; 和溶剂。 R 1选自氢原子，碳原子数1〜4的烷基，碳原子数2〜4的烯基，碳原子数3〜8的环烷基，碳原子数6〜12的芳基， 并且R 2选自Cl，F，Br和I.