公开(公告)号：US20100163181A1

公开(公告)日：2010-07-01

申请号：US12369767

申请日：2009-02-12

申请人： Hiroyuki KOBAYASHI ,  Kenji MAEDA ,  Masaru IZAWA ,  Makoto NAWATA ,  Shingo KIMURA

发明人： Hiroyuki KOBAYASHI ,  Kenji MAEDA ,  Masaru IZAWA ,  Makoto NAWATA ,  Shingo KIMURA

IPC分类号： H01L21/3065 ,  B05C11/00

CPC分类号： H01L21/67201

摘要： There is provided a vacuum processing apparatus including a valve whose opening degree can be set to any size and a control computer which automatically controls a depressurizing rate. The vacuum processing apparatus can reduce the number of foreign particles adhered to a sample to be processed in the lock chamber and can improve the throughput at the same time.

摘要翻译： 提供了一种真空处理装置，其包括可以将开度设定为任意尺寸的阀，以及自动控制减压率的控制计算机。 真空处理装置可以减少在锁室中附着到待处理样品的异物的数量，并且可以同时提高生产量。