公开(公告)号：US06795170B2

公开(公告)日：2004-09-21

申请号：US10299705

申请日：2002-11-20

申请人： Hitoshi Mishiro ,  Shinya Kikugawa ,  Kaname Okada ,  Takayuki Kawahara ,  Morio Terakado

发明人： Hitoshi Mishiro ,  Shinya Kikugawa ,  Kaname Okada ,  Takayuki Kawahara ,  Morio Terakado

IPC分类号： G03B2762

CPC分类号： G03F1/64 ,  G03F7/70983

摘要： A structure for attaching a pellicle to a photomask, the pellicle comprising a pellicle frame and a pellicle sheet attached to an opening portion formed in the pellicle frame, wherein at least a portion of the pellicle frame surface in contact with the photo-mask has a direct contact with the photo-mask without interposing an adhesive.

摘要翻译： 一种用于将防护薄膜组件附接到光掩模的结构，所述防护薄膜组件包括防护薄膜组件框架和附着到形成在所述防护薄膜框架中的开口部分的防护薄膜组件，其中所述防护薄膜组件框架表面中的与所述光掩模接触的部分具有 直接接触光罩而不插入胶粘剂。