公开(公告)号：US08402786B2

公开(公告)日：2013-03-26

申请号：US10283055

申请日：2002-10-30

申请人： Yoshiaki Ikuta ,  Shinya Kikugawa ,  Akio Masui ,  Noriaki Shimodaira ,  Shuhei Yoshizawa

发明人： Yoshiaki Ikuta ,  Shinya Kikugawa ,  Akio Masui ,  Noriaki Shimodaira ,  Shuhei Yoshizawa

IPC分类号： C03B25/00

CPC分类号： G03F7/70958 ,  C03B19/1453 ,  C03B32/00 ,  C03B2201/21 ,  C03B2201/23 ,  C03C3/06 ,  C03C23/00 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/23 ,  C03C2203/54 ,  Y02P40/57

摘要： A process for producing a synthetic silica glass optical component which contains at least 1×1017 molecules/cm3 and has an OH concentration of at most 200 ppm and substantially no reduction type defects, by treating a synthetic silica glass having a hydrogen molecule content of less than 1×1017 molecules/cm3 at a temperature of from 300 to 600° C. in a hydrogen gas-containing atmosphere at a pressure of from 2 to 30 atms.

摘要翻译： 一种合成石英玻璃光学部件的制造方法，其通过处理氢分子含量少的合成二氧化硅玻璃，其含有至少1×10 17分子/ cm 3，OH浓度为200ppm以下，基本上无还原型缺陷 在含有氢气的气氛中，在2-30atms的压力下，在300-600℃的温度下，比1×1017分子/ cm 3。

公开(公告)号：US07989378B2

公开(公告)日：2011-08-02

申请号：US12824923

申请日：2010-06-28

申请人： Akio Koike ,  Yasutomi Iwahashi ,  Shinya Kikugawa

发明人： Akio Koike ,  Yasutomi Iwahashi ,  Shinya Kikugawa

IPC分类号： C03C3/06 ,  C03C3/11 ,  C03C3/112

CPC分类号： C03B19/1453 ,  C03B19/1461 ,  C03B32/00 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/23 ,  C03B2201/42 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/40 ,  C03C2201/42 ,  C03C2203/40 ,  C03C2203/46 ,  C03C2203/54 ,  Y02P40/57

摘要： The present invention is to provide a TiO2—SiO2 glass having suitable thermal expansion properties as an optical member of an exposure tool for EUVL. The present invention relates to a TiO2-containing silica glass having a temperature, at which a coefficient of thermal expansion is 0 ppb/° C., falling within the range of 23±4° C. and a temperature width, in which a coefficient of thermal expansion is 0±5 ppb/° C., of 5° C. or more.

摘要翻译： 本发明提供具有合适的热膨胀性能的TiO 2 -SiO 2玻璃作为EUVL用曝光工具的光学部件。 本发明涉及热膨胀系数为0ppb /℃的温度为23±4℃的温度范围的含TiO2的二氧化硅玻璃，其温度范围为 的热膨胀为0±5ppb /℃，为5℃以上。

公开(公告)号：US07784307B2

公开(公告)日：2010-08-31

申请号：US11540760

申请日：2006-10-02

申请人： Tomonori Ogawa ,  Yoshiaki Ikuta ,  Shinya Kikugawa

发明人： Tomonori Ogawa ,  Yoshiaki Ikuta ,  Shinya Kikugawa

IPC分类号： C03B19/00 ,  C03B19/06 ,  C03C3/04 ,  C03C3/06

CPC分类号： C03C3/06 ,  C03C4/0071 ,  C03C4/0085 ,  C03C2201/23 ,  C03C2203/44 ,  C03C2203/54

摘要： To reduce the change in the refractive index of an irradiated portion of synthetic quartz glass, caused by the irradiation with a high energy light emitted from a light source such as a KrF excimer laser or an ArF excimer laser. A process for producing an optical member made of synthetic quartz glass, wherein the OH group concentration of the optical member is set depending upon the energy density of the laser beam employed, to adjust the ratio R (KJ/cm.sup.2-ppb).sup.-1 of the change in the refractive index of the optical member to the cumulative irradiation energy (KJ/cm.sup.2) by the laser, to be 0.Itoreq.R.Itoreq.0.2, thereby to control the change in the refractive index of the optical member made of synthetic quartz glass by the irradiation with a laser beam to be within a predetermined range.

摘要翻译： 为了减少由诸如KrF准分子激光器或ArF准分子激光器的光源发射的高能量光的照射引起的合成石英玻璃的照射部分的折射率的变化。 一种制造由合成石英玻璃制成的光学构件的方法，其中根据所使用的激光束的能量密度设置光学构件的OH基浓度，以调节比率R（KJ / cm 2 -Pbb ）为1，光学部件的折射率与激光的累积照射能量（KJ / cm 2）的变化为0.Itoreq.R.Itore.0.0，由此控制 通过用激光束照射由合成石英玻璃制成的光学构件的折射率的变化在预定范围内。

公开(公告)号：US20090104103A1

公开(公告)日：2009-04-23

申请号：US12336017

申请日：2008-12-16

申请人： Noriyuki AGATA ,  Shinya KIKUGAWA ,  Yutaka SHIMIZU ,  Kazumi YOSHIDA ,  Masatoshi NISHIMOTO

发明人： Noriyuki AGATA ,  Shinya KIKUGAWA ,  Yutaka SHIMIZU ,  Kazumi YOSHIDA ,  Masatoshi NISHIMOTO

IPC分类号： C01B33/12

CPC分类号： C03C3/06 ,  C03C2201/02 ,  C03C2201/32 ,  C03C2201/50 ,  C30B7/10 ,  C30B29/18 ,  Y10T117/1008

摘要： An object of the present invention is to provide an artificial quartz member inhibited from suffering the decrease in transmittance in a laser light wavelength region which is caused by long-term irradiation with a laser light having a wavelength of 200 nm or shorter; and a process for producing the artificial quartz member. The invention provides an artificial quartz member for use as an optical element to be irradiated with a laser light having a wavelength of 200 nm or shorter, having an aluminum content of 200 ppb or lower.

摘要翻译： 本发明的目的在于提供一种人造石英部件，该人造石英部件由于长时间照射波长为200nm以下的激光而导致的激光波长区域的透射率降低; 以及人造石英部件的制造方法。 本发明提供一种人造石英部件，其用作要用200ppm或更低的铝含量的波长为200nm或更短的激光照射的光学元件。

公开(公告)号：US07491475B2

公开(公告)日：2009-02-17

申请号：US11478612

申请日：2006-07-03

申请人： Shinya Kikugawa ,  Keigo Hino ,  Hitoshi Mishiro

发明人： Shinya Kikugawa ,  Keigo Hino ,  Hitoshi Mishiro

IPC分类号： G03F1/00

CPC分类号： G03F7/70966 ,  C03B19/1453 ,  C03C3/06 ,  Y02P40/57 ,  Y10T428/31616

摘要： It is to provide a photomask substrate which has a low birefringence and with which polarized illumination can be employed or immersion exposure can be carried out.A photomask substrate made of a synthetic quartz glass to be used for production of a semiconductor employing a light source having an exposure wavelength of at most about 200 nm, which has a birefringence of at most 1 nm/6.35 mm at the exposure wavelength, and of which the amount of decrease in light transmittance is at most 1.0% as a difference in light transmittance at a wavelength of 217 nm, between before and after irradiation with Xe excimer lamp with an illuminance of 13.2 mW/cm2 for 20 minutes.

摘要翻译： 提供一种具有低双折射率的光掩模衬底，并且可以采用偏振照明或可以进行浸没曝光。 一种由合成石英玻璃制成的光掩模基板，用于生产在曝光波长处具有至多1nm / 6.35mm的双折射的具有至多约200nm的曝光波长的光源的半导体，以及 在照射为13.2mW / cm 2的Xe准分子灯照射20分钟之前和之后，在217nm波长下的透光率差为1.0％以下。

公开(公告)号：US20070027018A1

公开(公告)日：2007-02-01

申请号：US11540760

申请日：2006-10-02

申请人： Tomonori Ogawa ,  Yoshiaki Ikuta ,  Shinya Kikugawa

发明人： Tomonori Ogawa ,  Yoshiaki Ikuta ,  Shinya Kikugawa

IPC分类号： C03C3/04 ,  C03B5/26 ,  C03C15/00

CPC分类号： C03C3/06 ,  C03C4/0071 ,  C03C4/0085 ,  C03C2201/23 ,  C03C2203/44 ,  C03C2203/54

摘要： To reduce the change in the refractive index of an irradiated portion of synthetic quartz glass, caused by the irradiation with a high energy light emitted from a light source such as a KrF excimer laser or an ArF excimer laser. A process for producing an optical member made of synthetic quartz glass, wherein the OH group concentration of the optical member is set depending upon the energy density of the laser beam employed, to adjust the ratio R (KJ/cm2-ppb)−1 of the change in the refractive index of the optical member to the cumulative irradiation energy (KJ/cm2) by the laser, to be 0≦R≦0.2, thereby to control the change in the refractive index of the optical member made of synthetic quartz glass by the irradiation with a laser beam to be within a predetermined range.

摘要翻译： 为了减少由诸如KrF准分子激光器或ArF准分子激光器的光源发射的高能量光的照射引起的合成石英玻璃的照射部分的折射率的变化。 一种制造由合成石英玻璃制成的光学构件的方法，其中根据所用激光束的能量密度设置光学构件的OH基浓度，以调节比例R（KJ / cm 2）/ 光学构件的折射率与激光的累积照射能量（KJ / cm 2）之间的变化的值为0以上的SUP〜-ppb）为0 <= R <= 0.2，从而通过激光束的照射来控制由合成石英玻璃制成的光学构件的折射率的变化，使其在预定范围内。

公开(公告)号：US20060246363A1

公开(公告)日：2006-11-02

申请号：US11478612

申请日：2006-07-03

申请人： Shinya Kikugawa ,  Keigo Hino ,  Hitoshi Mishiro

发明人： Shinya Kikugawa ,  Keigo Hino ,  Hitoshi Mishiro

IPC分类号： B32B9/00 ,  B32B17/10 ,  B32B17/06 ,  G03F1/00

CPC分类号： G03F7/70966 ,  C03B19/1453 ,  C03C3/06 ,  Y02P40/57 ,  Y10T428/31616

摘要： It is to provide a photomask substrate which has a low birefringence and with which polarized illumination can be employed or immersion exposure can be carried out. A photomask substrate made of a synthetic quartz glass to be used for production of a semiconductor employing a light source having an exposure wavelength of at most about 200 nm, which has a birefringence of at most 1 nm/6.35 mm at the exposure wavelength, and of which the amount of decrease in light transmittance is at most 1.0% as a difference in light transmittance at a wavelength of 217 nm, between before and after irradiation with Xe excimer lamp with an illuminance of 13.2 mW/cm2 for 20 minutes.

摘要翻译： 提供一种具有低双折射率的光掩模衬底，并且可以采用偏振照明或可以进行浸没曝光。 一种由合成石英玻璃制成的光掩模基板，用于生产在曝光波长处具有至多1nm / 6.35mm的双折射的具有至多约200nm的曝光波长的光源的半导体，以及 在照射为13.2mW / cm 2的Xe准分子灯照射前后，透光率的降低量为217nm波长下的透光率差为1.0％以下， SUP> 20分钟。

公开(公告)号：US07022633B2

公开(公告)日：2006-04-04

申请号：US10317068

申请日：2002-12-12

申请人： Yoshiaki Ikuta ,  Shinya Kikugawa ,  Noriaki Shimodaira ,  Akio Masui ,  Shuhei Yoshizawa

发明人： Yoshiaki Ikuta ,  Shinya Kikugawa ,  Noriaki Shimodaira ,  Akio Masui ,  Shuhei Yoshizawa

IPC分类号： C03C3/06 ,  G01N23/00

CPC分类号： C03C3/06 ,  C03B19/1453 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/21 ,  C03B2201/23 ,  C03C23/002 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/23 ,  C03C2203/44 ,  C03C2203/54 ,  Y02P40/57 ,  Y10S65/16 ,  Y10S501/90 ,  Y10S501/905

摘要： A synthetic quartz glass for optical use, to be used by irradiation with light within a range of from the ultraviolet region to the vacuum ultraviolet region, which contains fluorine, which has a ratio of the scattering peak intensity of 2250 cm−1 (I2250) to the scattering peak intensity of 800 cm−1 (I800), i.e. I2250/I800, of at most 1×10−4 in the laser Raman spectrum, and which has an absorption coefficient of light of 245 nm of at most 2×10−3 cm−1.

摘要翻译： 一种用于光学用途的合成石英玻璃，其通过在含有氟的紫外区域至真空紫外区域的范围内的光照射而使用，所述氟化物具有2250cm -1的散射峰强度 （I 2250）相对于800cm -1（I 800）的散射峰强度，即I 2250 在激光拉曼光谱中，其最大吸收系数为245nm，最多为2×10 3，最大为1×10 -4， SUP> -3cm -1 -1。

公开(公告)号：US06544914B1

公开(公告)日：2003-04-08

申请号：US09701191

申请日：2000-12-28

申请人： Shinya Kikugawa ,  Yoshiaki Ikuta ,  Akio Masui ,  Noriaki Shimodaira ,  Shuhei Yoshizawa

发明人： Shinya Kikugawa ,  Yoshiaki Ikuta ,  Akio Masui ,  Noriaki Shimodaira ,  Shuhei Yoshizawa

IPC分类号： C03C306

CPC分类号： C03C23/002 ,  B08B7/0057 ,  C03B19/1453 ,  C03B19/1469 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/21 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/23 ,  C03C2203/50 ,  Y02P40/57

摘要： A process for producing a synthetic quartz glass for an optical member, which comprises a step of irradiating a synthetic quartz glass having an OH group content of 50 ppm or lower with vacuum ultraviolet light having a wavelength of 180 nm or shorter to improve the transmittance in a region of wavelengths of not longer than 165 nm.

摘要翻译： 一种用于制造用于光学构件的合成石英玻璃的方法，其包括用波长为180nm或更短的真空紫外光照射具有50ppm或更低的OH基含量的合成石英玻璃以提高透射率的步骤 波长不超过165nm的区域。

公开(公告)号：US06499317B1

公开(公告)日：2002-12-31

申请号：US09581263

申请日：2000-10-17

申请人： Yoshiaki Ikuta ,  Shinya Kikugawa ,  Noriaki Shimodaira ,  Akio Masui ,  Shuhei Yoshizawa

发明人： Yoshiaki Ikuta ,  Shinya Kikugawa ,  Noriaki Shimodaira ,  Akio Masui ,  Shuhei Yoshizawa

IPC分类号： G01N2300

CPC分类号： C03C3/06 ,  C03B19/1453 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/21 ,  C03B2201/23 ,  C03C23/002 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/23 ,  C03C2203/44 ,  C03C2203/54 ,  Y02P40/57 ,  Y10S65/16 ,  Y10S501/90 ,  Y10S501/905

摘要： A synthetic quartz glass for optical use, to be used by irradiation with light within a range of from the ultraviolet region to the vacuum ultraviolet region, which contains fluorine, which has a ratio of the scattering peak intensity of 2250 cm−1 (I2250) to the scattering peak intensity of 800 cm−1 (I800), i.e. I2250/I800, of at most 1×10−4 in the laser Raman spectrum, and which has an absorption coefficient of light of 245 nm of at most 2×10−3 cm−1.

摘要翻译： 一种用于光学用的合成石英玻璃，其用于通过在从含有氟的紫外线区域到真空紫外线区域的光的照射下使用，其具有2250cm -1（I2250）的散射峰强度比， 对于激光拉曼光谱中至多为1×10 -4的800cm -1（I800）的散射峰强度（I800），即I2250 / I800，其吸光系数为245nm，最多为2×10 -3 cm -3， 1。