公开(公告)号：US20070046954A1

公开(公告)日：2007-03-01

申请号：US11210113

申请日：2005-08-24

申请人： Hugo Joseph Cramer ,  Erik Van Brederode

发明人： Hugo Joseph Cramer ,  Erik Van Brederode

IPC分类号： G01B11/14

CPC分类号： G03F7/70625 ,  G03F7/70516 ,  H01L22/12 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/00

摘要： A method of matching CD-SEM's to ensure consistent measurements over an installed base of SEM's is disclosed by measuring with each of a plurality of scanning electron microscopes the feature size of resist features in at least two positions on the substrate such that field-to-field variations, and reticle and exposure tool non-uniformities are efficiently suppressed in the matching result.

摘要翻译： 通过用多个扫描电子显微镜中的每一个测量基板上的至少两个位置中的抗蚀剂特征的特征尺寸来公开将匹配CD-SEM以确保相对于SEM的安装基底的一致测量的方法， 在匹配结果中有效地抑制了场变化，掩模版和曝光工具的不均匀性。