利索-全球专利检索

  1. 登录
  2. 注册

搜索结果

2 条记录 (耗时 0.036 秒)

    Manufacturing method of reflective layer of display device, reflective LCD device and transflective LCD device
    2.
    发明授权
    Manufacturing method of reflective layer of display device, reflective LCD device and transflective LCD device 有权
    显示装置的反射层制造方法，反射型LCD装置和半透反射式液晶显示装置

    公开(公告)号：US07505097B2

    公开(公告)日：2009-03-17

    申请号：US11104784

    申请日：2005-04-12

    申请人： Hung-Yi Luo ,  Min-Chin Su ,  Shih-Han Chen ,  Been-Chih Liou ,  Jr-Hong Chen

    发明人： Hung-Yi Luo ,  Min-Chin Su ,  Shih-Han Chen ,  Been-Chih Liou ,  Jr-Hong Chen

    IPC分类号： G02F1/1335

    CPC分类号： G02F1/133555 ,  G02F2203/02

    摘要： A reflective and a transflective liquid crystal display device and a manufacturing method thereof are provided. The manufacturing method includes the following steps. First, a substrate structure of a reflective or a transflective liquid crystal display device is provided. Next, a reflection layer is formed over the substrate structure, a protection layer is formed over the reflection layer, and a photoresist layer is formed over the protection layer. Then, the photoresist layer is patterned to form a patterned photoresist layer, the protection layer is patterned to form a patterned protection layer, and the reflection layer is patterned to form a patterned reflection layer. Thereafter, the patterned photoresist layer is removed.

    摘要翻译： 提供了一种反射和半透射型液晶显示装置及其制造方法。 该制造方法包括以下步骤。 首先，提供反射型或半透射型液晶显示装置的基板结构。 接着，在基板结构上形成反射层，在反射层上形成保护层，在保护层上形成光致抗蚀剂层。 然后，对光致抗蚀剂层进行图案化以形成图案化的光致抗蚀剂层，将保护层图案化以形成图案化的保护层，并且将反射层图案化以形成图案化的反射层。 此后，去除图案化的光致抗蚀剂层。