公开(公告)号：US07601273B2

公开(公告)日：2009-10-13

申请号：US11367406

申请日：2006-03-06

申请人： Hyun Soo Roh ,  Tae Won Park ,  Tae Young Lee ,  In Kyung Lee ,  Chin Ho Lee ,  Young Woo Kim ,  Moon Ro Choi ,  Jong Seop Kim

发明人： Hyun Soo Roh ,  Tae Won Park ,  Tae Young Lee ,  In Kyung Lee ,  Chin Ho Lee ,  Young Woo Kim ,  Moon Ro Choi ,  Jong Seop Kim

IPC分类号： C09K13/00

CPC分类号： H01L21/02024 ,  B24B37/044 ,  C09G1/02 ,  C09K3/1463

摘要： A polishing slurry composition including an abrasive, a pH-adjusting agent, a water-soluble thickening agent, and a chelating agent, wherein the chelating agent includes at least one of an acetate chelating agent and a phosphate chelating agent, and a method of using the same.

摘要翻译： 1.一种抛光浆料组合物，其含有研磨剂，pH调节剂，水溶性增稠剂和螯合剂，其中所述螯合剂包括乙酸盐螯合剂和磷酸盐螯合剂中的至少一种，以及使用 一样。