公开(公告)号：US20120217219A1

公开(公告)日：2012-08-30

申请号：US13467125

申请日：2012-05-09

申请人： Hyun-Chul LEE ,  Jung-Taik Cheong ,  Gue-Hong Song ,  Ky-Hyun Han

发明人： Hyun-Chul LEE ,  Jung-Taik Cheong ,  Gue-Hong Song ,  Ky-Hyun Han

IPC分类号： B44C1/22

CPC分类号： G03F7/091 ,  B23K26/042 ,  B23K26/0661 ,  B23K26/361 ,  B23K26/40 ,  B23K2103/10 ,  B23K2103/172 ,  H01L23/544 ,  H01L2924/0002 ,  Y10T428/31504 ,  H01L2924/00

摘要： A reference wafer maintains laser accuracy and calibrates a camera and a laser of a semiconductor equipment. The reference wafer includes a first anti-reflection layer, an adhesive layer, a light absorption layer and a second anti-reflection layer that are stacked over a substrate, a light reflection layer formed over the second anti-reflection layer, and a protection layer formed over the light reflection layer.

摘要翻译： 参考晶片保持激光精度并校准半导体设备的相机和激光器。 参考晶片包括层叠在基板上的第一防反射层，粘合层，光吸收层和第二防反射层，形成在第二抗反射层上的光反射层，以及保护层 形成在光反射层上。

公开(公告)号：US08198626B2

公开(公告)日：2012-06-12

申请号：US12492888

申请日：2009-06-26

申请人： Hyun-Chul Lee ,  Jung-Taik Cheong ,  Gue-Hong Song ,  Ky-Hyun Han

发明人： Hyun-Chul Lee ,  Jung-Taik Cheong ,  Gue-Hong Song ,  Ky-Hyun Han

IPC分类号： H01L23/58 ,  H01L29/10 ,  G02B1/10

CPC分类号： G03F7/091 ,  B23K26/042 ,  B23K26/0661 ,  B23K26/361 ,  B23K26/40 ,  B23K2103/10 ,  B23K2103/172 ,  H01L23/544 ,  H01L2924/0002 ,  Y10T428/31504 ,  H01L2924/00

摘要： A reference wafer maintains laser accuracy and calibrates a camera and a laser of a semiconductor equipment. The reference wafer includes a first anti-reflection layer, an adhesive layer, a light absorption layer and a second anti-reflection layer that are stacked over a substrate, a light reflection layer formed over the second anti-reflection layer, and a protection layer formed over the light reflection layer.

摘要翻译： 参考晶片保持激光精度并校准半导体设备的相机和激光器。 参考晶片包括层叠在基板上的第一防反射层，粘合层，光吸收层和第二防反射层，形成在第二抗反射层上的光反射层，以及保护层 形成在光反射层上。

公开(公告)号：US20100167064A1

公开(公告)日：2010-07-01

申请号：US12492888

申请日：2009-06-26

申请人： Hyun-Chul Lee ,  Jung-Taik Cheong ,  Gue-Hong Song ,  Ky-Hyun Han

发明人： Hyun-Chul Lee ,  Jung-Taik Cheong ,  Gue-Hong Song ,  Ky-Hyun Han

IPC分类号： B32B9/04 ,  B44C1/22

CPC分类号： G03F7/091 ,  B23K26/042 ,  B23K26/0661 ,  B23K26/361 ,  B23K26/40 ,  B23K2103/10 ,  B23K2103/172 ,  H01L23/544 ,  H01L2924/0002 ,  Y10T428/31504 ,  H01L2924/00

摘要： A reference wafer maintains laser accuracy and calibrates a camera and a laser of a semiconductor equipment. The reference wafer includes a first anti-reflection layer, an adhesive layer, a light absorption layer and a second anti-reflection layer that are stacked over a substrate, a light reflection layer formed over the second anti-reflection layer, and a protection layer formed over the light reflection layer.

摘要翻译： 参考晶片保持激光精度并校准半导体设备的相机和激光器。 参考晶片包括层叠在基板上的第一防反射层，粘合层，光吸收层和第二防反射层，形成在第二抗反射层上的光反射层，以及保护层 形成在光反射层上。