公开(公告)号：US09120669B2

公开(公告)日：2015-09-01

申请号：US13446053

申请日：2012-04-13

申请人： Hyungryul Choi ,  Chih-Hao Chang ,  Kyoo Chul Park ,  Gareth H McKinley ,  George Barbastathis ,  Jeong-gil Kim

发明人： Hyungryul Choi ,  Chih-Hao Chang ,  Kyoo Chul Park ,  Gareth H McKinley ,  George Barbastathis ,  Jeong-gil Kim

IPC分类号： C03C15/00 ,  B81C1/00

CPC分类号： B81C1/00111 ,  B81C1/00103 ,  B81C2201/0132

摘要： Fabrication method. At least first and second hardmasks are deposited on a substrate, the thickness and materials of the first and second hardmask selected to provided etch selectivity with respect to the substrate. A nanoscale pattern of photoresist is created on the first hardmask and the hardmask is etched through to create the nanoscale pattern on a second hardmask. The second hardmask is etched through to create the desired taper nanocone structures in the substrate. Reactive ion etching is preferred. A glass manufacturing process using a roller imprint module is also disclosed.

摘要翻译： 制作方法。 至少第一和第二硬掩模沉积在衬底上，第一和第二硬掩模的厚度和材料被选择为提供相对于衬底的蚀刻选择性。 在第一硬掩模上形成光刻胶的纳米尺度图案，并且硬掩模被蚀刻穿过以在第二硬掩模上产生纳米尺度图案。 蚀刻第二个硬掩模，以在衬底中产生所需的锥形纳米结构。 反应离子蚀刻是优选的。 还公开了使用辊压印模块的玻璃制造工艺。