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发明授权
Lithographic apparatus, calibration method, device manufacturing method and computer program product 有权
标题翻译：光刻设备，校准方法，设备制造方法和计算机程序产品

公开(公告)号：US07502096B2

公开(公告)日：2009-03-10

申请号：US11348530

申请日：2006-02-07

申请人： Jeffrey Godefridus Cornelis Tempelaars , Gerardus Carolus Johannus Hofmans , Rene Oesterholt , Jan Hauschild , Hans Erik Kattouw

发明人： Jeffrey Godefridus Cornelis Tempelaars , Gerardus Carolus Johannus Hofmans , Rene Oesterholt , Jan Hauschild , Hans Erik Kattouw

IPC分类号： G02B27/42

CPC分类号： G03F9/7034 , G03F9/7011 , G03F9/7019

摘要： Calibration of spot height offsets in a level sensor is performed on a resist-coated substrate to eliminate process dependencies of substrate position measurements obtained by the level sensor.

摘要翻译： 在抗蚀剂涂覆的基板上执行液位传感器中的点高度偏移的校准，以消除由液位传感器获得的基板位置测量的过程依赖性。