公开(公告)号：US07309563B2

公开(公告)日：2007-12-18

申请号：US10741252

申请日：2003-12-19

申请人： Kateri E. Paul ,  William S. Wong ,  Steven E. Ready ,  René A. Lujan

发明人： Kateri E. Paul ,  William S. Wong ,  Steven E. Ready ,  René A. Lujan

IPC分类号： G03C5/00

CPC分类号： H01L21/31144 ,  H01L21/0272 ,  H01L21/0335 ,  H01L21/76802

摘要： A method for performing a liftoff operation involves printing a liftoff pattern using low-resolution patterning techniques to form fine feature patterns. The resulting feature size is defined by the spacing between printed patterns rather than the printed pattern size. By controlling the cross-sectional profile of the printed liftoff pattern, mask structures may be formed from the liftoff operation having beneficial etch-mask aperture profiles. For example, a multi-layer printed liftoff pattern can be used to create converging aperture profiles in a patterned layer. The patterned layer can then be used as an etch mask, where the converging aperture profiles result in desirable diverging etched features.

摘要翻译： 用于执行提升操作的方法包括使用低分辨率图案化技术打印提升图案以形成精细的特征图案。 所得到的特征尺寸由印刷图案之间的间距而不是印刷图案尺寸定义。 通过控制印刷的剥离图案的横截面轮廓，可以从具有有利的蚀刻掩模孔径轮廓的提升操作形成掩模结构。 例如，可以使用多层印刷提升图案来在图案化层中形成会聚孔径轮廓。 然后可以将图案化层用作蚀刻掩模，其中会聚孔径轮廓导致期望的发散蚀刻特征。