公开(公告)号：US08404133B2

公开(公告)日：2013-03-26

申请号：US12547115

申请日：2009-08-25

申请人： Ken Sakuma ,  Kensuke Ogawa ,  Kazuhiro Goi ,  Yong Tsong Tan ,  Ning Guan ,  Mingbin Yu ,  Hwee Gee Teo ,  Guo-Qiang Lo

发明人： Ken Sakuma ,  Kensuke Ogawa ,  Kazuhiro Goi ,  Yong Tsong Tan ,  Ning Guan ,  Mingbin Yu ,  Hwee Gee Teo ,  Guo-Qiang Lo

IPC分类号： C03C15/00

CPC分类号： G02B6/124

摘要： A method for manufacturing a planar optical waveguide device of which a core includes a plurality of alternatively arranged fin portions and valley portions to form a grating structure, in which the core widths of the valley portions vary along the longitudinal direction, the method including: a high refractive index material layer forming step of forming a high refractive index material layer; a photoresist layer forming step of forming a photoresist layer on the high refractive index material layer; a first exposure step of forming shaded portions on the photoresist layer using a phase-shifting photomask; a second exposure step of forming shaded portions on the photoresist layer using a binary photomask; a development step of developing the photoresist layer; and an etching step of etching the high refractive index material layer using the photoresist pattern resulted from the development step.

摘要翻译： 一种平面光波导装置的制造方法，其特征在于，芯体具有多个交替设置的翅片部和谷部，以形成其中谷部的芯宽沿纵向变化的格栅结构，该方法包括： 形成高折射率材料层的高折射率材料层形成步骤; 在高折射率材料层上形成光致抗蚀剂层的光致抗蚀剂层形成步骤; 使用相移光掩模在光致抗蚀剂层上形成阴影部分的第一曝光步骤; 第二曝光步骤，使用二元光掩模在所述光致抗蚀剂层上形成阴影部分; 显影光致抗蚀剂层的显影步骤; 以及使用由显影步骤产生的光致抗蚀剂图案来蚀刻高折射率材料层的蚀刻步骤。

公开(公告)号：US08227178B2

公开(公告)日：2012-07-24

申请号：US12547146

申请日：2009-08-25

申请人： Ken Sakuma ,  Kensuke Ogawa ,  Kazuhiro Goi ,  Yong Tsong Tan ,  Ning Guan ,  Mingbin Yu ,  Hwee Gee Teo ,  Guo-Qiang Lo

发明人： Ken Sakuma ,  Kensuke Ogawa ,  Kazuhiro Goi ,  Yong Tsong Tan ,  Ning Guan ,  Mingbin Yu ,  Hwee Gee Teo ,  Guo-Qiang Lo

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G02B6/124 ,  G02B6/132 ,  G02B6/136

摘要： A method for manufacturing a planar optical waveguide device including a core of which a top face is provided with a groove section filled with a groove section filler made of a low refractive index material having a refractive index lower than that of the core, the method including; a first high refractive index material layer forming step of forming a high refractive index material layer; a low refractive index material layer forming step of forming a low refractive index material layer made of the low refractive index material on the high refractive index material layer; a groove section filler forming step of forming the groove section filler by trimming both lateral portions of the low refractive index material layer; and a second high refractive index material layer forming step of forming a high refractive index material layer so as to fill the both sides of the lateral portions of the groove section filler.

摘要翻译： 一种平面光波导器件的制造方法，其特征在于，具有芯部，其上表面设置有填充有折射率低于芯的低折射率材料的槽部填充物的槽部，该方法包括 ; 形成高折射率材料层的第一高折射率材料层形成步骤; 低折射率材料层形成步骤，在所述高折射率材料层上形成由所述低折射率材料制成的低折射率材料层; 槽部填料形成工序，通过对所述低折射率材料层的两个侧面进行修整而形成所述槽部填料; 以及形成高折射率材料层的第二高折射率材料层形成步骤，以便填充槽部填料的侧部的两侧。

公开(公告)号：US20110049735A1

公开(公告)日：2011-03-03

申请号：US12547115

申请日：2009-08-25

申请人： Ken Sakuma ,  Kensuke Ogawa ,  Kazuhiro Goi ,  Yong Tsong Tan ,  Ning Guan ,  Mingbin Yu ,  Hwee Gee Teo ,  Guo-Qiang Lo

发明人： Ken Sakuma ,  Kensuke Ogawa ,  Kazuhiro Goi ,  Yong Tsong Tan ,  Ning Guan ,  Mingbin Yu ,  Hwee Gee Teo ,  Guo-Qiang Lo

IPC分类号： G02B6/10

CPC分类号： G02B6/124

摘要： A method for manufacturing a planar optical waveguide device of which a core includes a plurality of alternatively arranged fin portions and valley portions to form a grating structure, in which the core widths of the valley portions vary along the longitudinal direction, the method including: a high refractive index material layer forming step of forming a high refractive index material layer; a photoresist layer forming step of forming a photoresist layer on the high refractive index material layer; a first exposure step of forming shaded portions on the photoresist layer using a phase-shifting photomask; a second exposure step of forming shaded portions on the photoresist layer using a binary photomask; a development step of developing the photoresist layer; and an etching step of etching the high refractive index material layer using the photoresist pattern resulted from the development step.

摘要翻译： 一种平面光波导装置的制造方法，其特征在于，芯体具有多个交替设置的翅片部和谷部，以形成其中谷部的芯宽沿纵向变化的格栅结构，该方法包括： 形成高折射率材料层的高折射率材料层形成步骤; 在高折射率材料层上形成光致抗蚀剂层的光致抗蚀剂层形成步骤; 使用相移光掩模在光致抗蚀剂层上形成阴影部分的第一曝光步骤; 第二曝光步骤，使用二元光掩模在所述光致抗蚀剂层上形成阴影部分; 显影光致抗蚀剂层的显影步骤; 以及使用由显影步骤产生的光致抗蚀剂图案来蚀刻高折射率材料层的蚀刻步骤。