公开(公告)号：US20070160761A1

公开(公告)日：2007-07-12

申请号：US11649504

申请日：2007-01-04

申请人： Knud Reuter ,  Jorg Sundermeyer ,  Alexei Merkoulov ,  Wolfgang Stolz ,  Kestin Volz ,  Michael Pokoj ,  Thomas Ochs

发明人： Knud Reuter ,  Jorg Sundermeyer ,  Alexei Merkoulov ,  Wolfgang Stolz ,  Kestin Volz ,  Michael Pokoj ,  Thomas Ochs

IPC分类号： C23C16/00 ,  C07F11/00

CPC分类号： C23C16/34 ,  C07F11/005 ,  C23C16/18 ,  Y10T428/12174

摘要： The present invention relates to specific novel tungsten and molybdenum compounds to the use thereof for the deposition of tungsten- or molybdenum-containing layers by means of chemical vapour deposition, and to the tungsten- or molybdenum-containing layers produced by this process.

摘要翻译： 本发明涉及用于通过化学气相沉积沉积含钨或含钼层的特定新型钨和钼化合物以及通过该方法生产的含钨或钼的层。

公开(公告)号：US07754908B2

公开(公告)日：2010-07-13

申请号：US11649504

申请日：2007-01-04

申请人： Knud Reuter ,  Jörg Sundermeyer ,  Alexei Merkoulov ,  Wolfgang Stolz ,  Kestin Volz ,  Michael Pokoj ,  Thomas Ochs

发明人： Knud Reuter ,  Jörg Sundermeyer ,  Alexei Merkoulov ,  Wolfgang Stolz ,  Kestin Volz ,  Michael Pokoj ,  Thomas Ochs

IPC分类号： C07F11/00

CPC分类号： C23C16/34 ,  C07F11/005 ,  C23C16/18 ,  Y10T428/12174

摘要： The present invention relates to specific novel tungsten and molybdenum compounds to the use thereof for the deposition of tungsten- or molybdenum-containing layers by means of chemical vapour deposition, and to the tungsten- or molybdenum-containing layers produced by this process.

摘要翻译： 本发明涉及用于通过化学气相沉积沉积含钨或含钼层的特定新型钨和钼化合物以及通过该方法制备的含钨或钼的层。