公开(公告)号：US12090510B2

公开(公告)日：2024-09-17

申请号：US16768315

申请日：2018-12-21

申请人： LG CHEM, LTD.

发明人： Hyun Taek Oh ,  Chang Hoon Sin ,  Kwang Seung Park ,  Moon Soo Park

IPC分类号： B05D1/38 ,  B05D3/10 ,  B05D5/06 ,  B05D7/24 ,  C09D5/00 ,  C09D183/04 ,  G02B1/113

CPC分类号： B05D1/38 ,  B05D3/10 ,  B05D5/063 ,  B05D7/24 ,  C09D5/006 ,  C09D183/04 ,  G02B1/113 ,  B05D2320/00 ,  B05D2350/63

摘要： Provided is a method for preparing a silica layer, comprising bringing to gelation a precursor layer formed from a precursor composition comprising a silica precursor, an acid catalyst and a surfactant.