公开(公告)号：US20020081847A1

公开(公告)日：2002-06-27

申请号：US10015650

申请日：2001-12-17

Applicant: LG. PHILIPS LCD CO., LTD.

Inventor： Gyoo-Chul Jo ,  Ki-Sung Chae

IPC: H01L021/302 ,  H01L021/461

CPC classification number: H01L29/66765 ,  C09K13/04 ,  C09K13/06 ,  C23F1/18 ,  C23F1/26 ,  H01L21/32134 ,  H01L29/458

Abstract: An etchant includes hydrogen peroxide (H2O2), and a mixed solution including at least one of an organic acid, an inorganic acid, and a neutral salt.

Abstract translation: 蚀刻剂包括过氧化氢（H 2 O 2）和包含有机酸，无机酸和中性盐中的至少一种的混合溶液。

公开(公告)号：US20040242000A1

公开(公告)日：2004-12-02

申请号：US10889052

申请日：2004-07-13

Applicant: LG. PHILIPS LCD CO., LTD.

Inventor： Gyoo-Chul Jo ,  Ki-Sung Chae

IPC: H01L021/302 ,  H01L021/461

CPC classification number: H01L29/66765 ,  C09K13/04 ,  C09K13/06 ,  C23F1/18 ,  C23F1/26 ,  H01L21/32134 ,  H01L29/458

Abstract: An etchant includes hydrogen peroxide (H2O2), and a mixed solution including at least one of an organic acid, an inorganic acid, and a neutral salt.

Abstract translation: 蚀刻剂包括过氧化氢（H 2 O 2）和包含有机酸，无机酸和中性盐中的至少一种的混合溶液。