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1.发明申请公开(公告)号：US20110013163A1
公开(公告)日：2011-01-20
申请号：US12892733
申请日：2010-09-28
IPC分类号： G03B27/42
CPC分类号： G03B27/42 , G03F7/70558 , G03F7/70891
摘要： In a device manufacturing method using a lithographic apparatus, corrections to the dose are applied, within and/or between fields, to compensate for CD variations due to heating of elements of the projection system of the lithographic apparatus.
摘要翻译： 在使用光刻设备的器件制造方法中，在场内和/或场之间施加对剂量的校正，以补偿由于光刻设备的投影系统的元件的加热引起的CD变化。
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2.发明授权Lithographic apparatus configured to compensate for variations in a critical dimension of projected features due to heating of optical elements 有权光刻设备被配置为补偿由于光学元件的加热引起的投影特征的临界尺寸的变化公开(公告)号：US08068212B2
公开(公告)日：2011-11-29
申请号：US12892733
申请日：2010-09-28
CPC分类号： G03B27/42 , G03F7/70558 , G03F7/70891
摘要： A lithographic apparatus configured to apply corrections to the dose, within and/or between fields, to compensate for critical dimension variations due to heating of elements of the projection system is disclosed.
摘要翻译： 公开了一种光刻设备，其被配置为在场内和/或场之间对剂量进行校正，以补偿由于投影系统的元件的加热引起的临界尺寸变化。
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3.发明授权公开(公告)号：US07829249B2
公开(公告)日：2010-11-09
申请号：US11713787
申请日：2007-03-05
IPC分类号： G03F9/00
CPC分类号： G03B27/42 , G03F7/70558 , G03F7/70891
摘要： In a device manufacturing method using a lithographic apparatus, corrections to the dose are applied, within and/or between fields, to compensate for CD variations due to heating of elements of the projection system of the lithographic apparatus.
摘要翻译： 在使用光刻设备的器件制造方法中，在场内和/或场之间施加对剂量的校正，以补偿由于光刻设备的投影系统的元件的加热引起的CD变化。
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4.发明申请公开(公告)号：US20080220345A1
公开(公告)日：2008-09-11
申请号：US11713787
申请日：2007-03-05
CPC分类号： G03B27/42 , G03F7/70558 , G03F7/70891
摘要： In a device manufacturing method using a lithographic apparatus, corrections to the dose are applied, within and/or between fields, to compensate for CD variations due to heating of elements of the projection system of the lithographic apparatus.
摘要翻译： 在使用光刻设备的器件制造方法中，在场内和/或场之间施加对剂量的校正，以补偿由于光刻设备的投影系统的元件的加热引起的CD变化。
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