公开(公告)号：US07315346B2

公开(公告)日：2008-01-01

申请号：US10733771

申请日：2003-12-12

申请人： Michael Cornelis Van Beek ,  Levinus Pieter Bakker ,  Theodorus Hubertus Josephus Bisschops ,  Jeroen Jonkers ,  Mark Kroon ,  Robertus Adrianus Maria Wolters ,  Adrianus Johannes Henricus Maas

发明人： Michael Cornelis Van Beek ,  Levinus Pieter Bakker ,  Theodorus Hubertus Josephus Bisschops ,  Jeroen Jonkers ,  Mark Kroon ,  Robertus Adrianus Maria Wolters ,  Adrianus Johannes Henricus Maas

IPC分类号： G03B27/52 ,  G03B27/42 ,  G03B27/54 ,  G03B27/32

CPC分类号： G03F7/70925 ,  B08B7/0057

摘要： A lithographic projection apparatus is disclosed. The apparatus includes a support structure constructed to support a patterning structure. The patterning structure is adapted to pattern a beam of radiation according to a desired pattern. The apparatus also includes a substrate holder that is constructed to hold a substrate, a projection system that is constructed and arranged to project the patterned beam onto a target portion of the substrate, and a downstream radical source that is connected to a gas supply and is configured to provide a beam of radicals onto a surface to be cleaned.

摘要翻译： 公开了一种光刻投影装置。 该装置包括构造成支撑图形结构的支撑结构。 图形结构适于根据期望的图案对辐射束进行图案化。 该装置还包括被构造成保持基板的基板保持器，被构造和布置成将图案化的光束投影到基板的目标部分上的投影系统，以及连接到气体源的下游自由基源，并且是 被配置为在待清洁的表面上提供自由基束。

公开(公告)号：US07728956B2

公开(公告)日：2010-06-01

申请号：US11098607

申请日：2005-04-05

申请人： Arno Jan Bleeker ,  Kars Zeger Troost ,  Adrianus Johannes Henricus Maas

发明人： Arno Jan Bleeker ,  Kars Zeger Troost ,  Adrianus Johannes Henricus Maas

IPC分类号： G03B27/32

CPC分类号： G03F7/70508 ,  G03F7/70275 ,  G03F7/70291

摘要： A lithographic system and method are provided that allow for variations of a basic device design to be generated without substantially increasing the cost of the data path hardware. The lithographic apparatus includes an array of individually controllable elements, a control system, a first data buffer, and a second data buffer. The control system provides control signals to the array of individually controllable elements. The first data buffer stores pattern data that corresponds to a pattern to be exposed on a plurality of areas on the substrate. The second data buffer stores pattern variation data, corresponding to at least one change to a part of the pattern. The control system is configured, such that at least one variation of the pattern is exposed on one of the areas on the substrate with the pattern variation data.

摘要翻译： 提供了一种光刻系统和方法，其允许在不显着增加数据路径硬件的成本的情况下生成基本设备设计的变化。 光刻设备包括独立可控元件阵列，控制系统，第一数据缓冲器和第二数据缓冲器。 控制系统向独立可控元件阵列提供控制信号。 第一数据缓冲器存储对应于要暴露在基板上的多个区域上的图案的图案数据。 第二数据缓冲器存储对应于图案的一部分的至少一个改变的图案变化数据。 控制系统被配置为使得图案的至少一个变化在图案变化数据的基板上的一个区域上露出。