公开(公告)号：US07839471B2

公开(公告)日：2010-11-23

申请号：US11686229

申请日：2007-03-14

申请人： Mutsumi Matsuo ,  Katsuhiro Imai ,  Tomohiko Kojima ,  Yoshio Yamaguchi

发明人： Mutsumi Matsuo ,  Katsuhiro Imai ,  Tomohiko Kojima ,  Yoshio Yamaguchi

IPC分类号： G02F1/1335 ,  G02F1/1333

CPC分类号： G02F1/133555 ,  G02F1/133371 ,  G02F1/134309 ,  G02F1/13439

摘要： A liquid crystal device has a plurality of pixels arranged. The liquid crystal device includes a first substrate, a second substrate opposing the first substrate, liquid crystal provided between the first substrate and the second substrate, wires formed on the first substrate, and a reflective layer formed on the first substrate. Each pixel has a reflective display region formed by the reflective layer and a transparent display region without the reflective layer, and each wire is routed between two pixels in the transparent display region and in the reflective display region.

摘要翻译： 液晶装置具有多个像素排列。 液晶装置包括第一基板，与第一基板相对的第二基板，设置在第一基板和第二基板之间的液晶，形成在第一基板上的布线，以及形成在第一基板上的反射层。 每个像素具有由反射层形成的反射显示区域和没有反射层的透明显示区域，并且每条导线在透明显示区域和反射显示区域中的两个像素之间布线。

公开(公告)号：US20050122567A1

公开(公告)日：2005-06-09

申请号：US10980750

申请日：2004-11-03

申请人： Toshihiro Otake ,  Tomohiko Kojima ,  Hideki Kaneko ,  Toshinori Uehara ,  Tomoyuki Nakano ,  Keiji Takizawa

发明人： Toshihiro Otake ,  Tomohiko Kojima ,  Hideki Kaneko ,  Toshinori Uehara ,  Tomoyuki Nakano ,  Keiji Takizawa

IPC分类号： G02F1/1335 ,  G02F1/13 ,  G02F1/133 ,  G02F1/1365 ,  G02F1/29 ,  G03F7/00 ,  G03F7/20 ,  G03F9/00 ,  H01L21/00

CPC分类号： G02F1/133555 ,  G03F7/0005 ,  G03F7/0007

摘要： A manufacturing process of an electro-optical apparatus substrate is provided wherein a substrate is coated with a photosensitive resin. A first exposure process is executed with a first reticle to form an uneven portion on the substrate. Subsequently, a second exposure process is executed with a second reticle to remove all the photosensitive resin on portions other than the uneven portion. After the second exposure process, the substrate is developed so as to form an underlying film having an uneven portion.

摘要翻译： 提供了一种电光装置基板的制造方法，其中基板被感光树脂涂覆。 用第一掩模版执行第一曝光处理，以在基板上形成不平坦部分。 随后，用第二掩模板执行第二曝光处理，以除去不平坦部分之外的部分上的所有感光树脂。 在第二曝光处理之后，显影衬底以形成具有不平坦部分的下面的膜。

公开(公告)号：US20110084985A1

公开(公告)日：2011-04-14

申请号：US12899964

申请日：2010-10-07

申请人： Tomohiko Kojima

发明人： Tomohiko Kojima

IPC分类号： G06F3/041 ,  G09G5/00

CPC分类号： G06F3/04883 ,  G06F3/04845

摘要： An input apparatus having an input surface touched by an object body at input time, the input apparatus includes: when a contact area of the object body on the input surface increases, an increase-direction detection section generating increase-direction information corresponding to the increase direction of the contact area; and when the contact area of the object body on the input surface is moved, a movement-direction detection section generating movement-direction information corresponding to the movement direction of the contact area.

摘要翻译： 一种输入装置，其具有在输入时被物体触摸的输入面，所述输入装置包括：当所述物体在所述输入面上的接触面积增大时，增大方向检测部，其产生与所述增加对应的增加方向信息 接触面方向; 并且当物体在输入面上的接触面移动时，移动方向检测部产生与接触区域的移动方向对应的移动方向信息。

公开(公告)号：US07224505B2

公开(公告)日：2007-05-29

申请号：US10980750

申请日：2004-11-03

申请人： Toshihiro Otake ,  Tomohiko Kojima ,  Hideki Kaneko ,  Toshinori Uehara ,  Tomoyuki Nakano ,  Keiji Takizawa

发明人： Toshihiro Otake ,  Tomohiko Kojima ,  Hideki Kaneko ,  Toshinori Uehara ,  Tomoyuki Nakano ,  Keiji Takizawa

IPC分类号： G02F1/03

CPC分类号： G02F1/133555 ,  G03F7/0005 ,  G03F7/0007

摘要： A manufacturing process of an electro-optical apparatus substrate is provided wherein a substrate is coated with a photosensitive resin. A first exposure process is executed with a first reticle to form an uneven portion on the substrate. Subsequently, a second exposure process is executed with a second reticle to remove all the photosensitive resin on portions other than the uneven portion. After the second exposure process, the substrate is developed so as to form an underlying film having an uneven portion.

摘要翻译： 提供了一种电光装置基板的制造方法，其中基板被感光树脂涂覆。 用第一掩模版执行第一曝光处理，以在基板上形成不平坦部分。 随后，用第二掩模板执行第二曝光处理，以除去不平坦部分之外的部分上的所有感光树脂。 在第二曝光处理之后，显影衬底以形成具有不平坦部分的下面的膜。