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    CD BIAS LOADING CONTROL WITH ARC LAYER OPEN
    8.
    发明申请
    CD BIAS LOADING CONTROL WITH ARC LAYER OPEN 有权
    光盘加载控制与ARC层开放

    公开(公告)号：US20100323525A1

    公开(公告)日：2010-12-23

    申请号：US12809021

    申请日：2008-12-09

    申请人： Kyeong-Koo Chi ,  Jonathan Kim

    发明人： Kyeong-Koo Chi ,  Jonathan Kim

    IPC分类号： H01L21/3065

    CPC分类号： H01L21/31144 ,  H01L21/0276

    摘要： A method for etching a line pattern in an etch layer disposed below an antireflective coating (ARC) layer below a patterned mask is provided. The method includes opening the ARC layer, in which an ARC opening gas comprising CF3I, a fluorocarbon (including hydrofluorocarbon) containing gas, and an oxygen containing gas are provided, a plasma is formed from the ARC opening gas to open the ARC layer, and providing the ARC opening gas is stopped. Line pattern features are etched into the etch layer through the opened ARC layer.

    摘要翻译： 提供了一种用于蚀刻设置在图案化掩模下面的抗反射涂层（ARC）层下方的蚀刻层中的线图案的方法。 该方法包括：在其中设置包括CF 3I的ARC开口气体，含有气体的碳氟化合物（包括氢氟烃）和含氧气体的ARC层，从ARC开口气体形成等离子体以打开ARC层，并且 提供ARC打开气体停止。 线图案特征通过打开的ARC层蚀刻到蚀刻层中。

    Apparatus and Method for Recommending the Spot or the Azit in the Regional Community System Based on Mobile Blog Through the Mobile Terminal
    9.
    发明申请
    Apparatus and Method for Recommending the Spot or the Azit in the Regional Community System Based on Mobile Blog Through the Mobile Terminal 审中-公开
    通过移动终端基于移动博客推荐区域社区系统中的现货或叠加的装置和方法

    公开(公告)号：US20070287441A1

    公开(公告)日：2007-12-13

    申请号：US11572375

    申请日：2005-07-19

    申请人： Hyuck Jin Im ,  Ji Kim ,  Kun Park ,  Jung Seo ,  Chester An ,  Yong Lee ,  Chol Im ,  Jonathan Kim ,  Ui Chung ,  Youn Go ,  Hyun Kwon ,  Soo Kim ,  Jae Ahn ,  Don Won ,  Sung Shim

    发明人： Hyuck Jin Im ,  Ji Kim ,  Kun Park ,  Jung Seo ,  Chester An ,  Yong Lee ,  Chol Im ,  Jonathan Kim ,  Ui Chung ,  Youn Go ,  Hyun Kwon ,  Soo Kim ,  Jae Ahn ,  Don Won ,  Sung Shim

    IPC分类号： H04Q7/20

    CPC分类号： G06Q30/02 ,  H04L47/10 ,  H04L63/08 ,  H04L67/04 ,  H04L67/18 ,  H04L67/24 ,  H04L67/26 ,  H04W4/029

    摘要： Disclosed is a location-based community service provision system for setting a plurality of main arenas by dividing a geographical area in a regional unit, setting and storing one or more virtual spatial locations, the one or more virtual spatial locations being a projection of real spatial public locations, as spots in one of the main arenas, receiving information on posts registered in spots transmitted through a mobile terminal by providing one or more pieces of information on the spots belonging to the main arena from information on a location of the mobile terminal to the mobile terminal, and storing the received information on posts with a link with the spots. An apparatus for recommending a spot or an azit in a moblog-based regional community system using a mobile terminal, includes a recommendation system for executing a recommendation algorithm to recommend azits, spots, friends or neighbors for each user; a level system for setting and managing a level for each azit and spot according to a preset rule; and a link evaluator for performing an evaluation on each link and managing a result of the evaluation.

    摘要翻译： 公开了一种基于位置的社区服务提供系统，用于通过划分区域单元中的地理区域来设置多个主要场所，设置和存储一个或多个虚拟空间位置，所述一个或多个虚拟空间位置是真实空间的投影 公共场所，作为主要场所之一的场所，通过从移动终端的位置的信息提供关于属于主要场所的点的一个或多个信息，接收通过移动终端发送的点登记的信息的信息， 移动终端，并且将接收到的信息存储在具有点的链接的帖子上。 一种用于使用移动终端在基于移动电话的区域社区系统中推荐斑点或叠加的装置，包括：推荐系统，用于执行推荐算法以推荐每个用户的az its，斑点，朋友或邻居; 用于根据预设规则为每个叠加和点设置和管理级别的级别系统; 以及用于对每个链路执行评估并管理评估结果的链接评估器。

    CD bias loading control with ARC layer open
    10.
    发明授权
    CD bias loading control with ARC layer open 有权
    CD偏压加载控制与ARC层打开

    公开(公告)号：US08470715B2

    公开(公告)日：2013-06-25

    申请号：US12809021

    申请日：2008-12-09

    申请人： Kyeong-Koo Chi ,  Jonathan Kim

    发明人： Kyeong-Koo Chi ,  Jonathan Kim

    IPC分类号： H01L21/302 ,  H01L21/461

    CPC分类号： H01L21/31144 ,  H01L21/0276

    摘要： A method for etching a line pattern in an etch layer disposed below an antireflective coating (ARC) layer below a patterned mask is provided. The method includes opening the ARC layer, in which an ARC opening gas comprising CF3I, a fluorocarbon (including hydrofluorocarbon) containing gas, and an oxygen containing gas are provided, a plasma is formed from the ARC opening gas to open the ARC layer, and providing the ARC opening gas is stopped. Line pattern features are etched into the etch layer through the opened ARC layer.

    摘要翻译： 提供了一种用于蚀刻设置在图案化掩模下面的抗反射涂层（ARC）层下方的蚀刻层中的线图案的方法。 该方法包括：在其中设置包括CF 3I的ARC开口气体，含有气体的碳氟化合物（包括氢氟烃）和含氧气体的ARC层，从ARC开口气体形成等离子体以打开ARC层，并且 提供ARC打开气体停止。 线图案特征通过打开的ARC层蚀刻到蚀刻层中。