-
公开(公告)号：US07279046B2
公开(公告)日：2007-10-09
申请号：US10366717
申请日：2003-02-14
申请人： Raymond K. Eby , Michael Nelson , Igor Touzov
发明人： Raymond K. Eby , Michael Nelson , Igor Touzov
IPC分类号： B05C11/10
CPC分类号： G01Q40/00 , Y10S977/854
摘要： A system and method for aligning prior patterning positions formed by a first SPM tip with a second SPM tip in combination with an SPM system includes identifying first location information that includes a location of the first SPM tip and a sample reference location on an SPM sample and storing the first location information in a storage area. After replacing the first SPM tip with the second SPM tip, second location information, which includes a location of the second SPM tip and the sample reference location on the SPM sample, is identified. Displacement is calculated between the location of the second SPM tip and the first SPM tip based on the first and second location information, and either the second SPM tip or a stage supporting the SPM sample is translated to align the second SPM tip with the location of the first SPM tip in accordance with the calculated displacement.
摘要翻译： 用于将由第一SPM尖端形成的先前图案形成位置与第二SPM尖端对准的系统和方法与SPM系统组合包括识别包括第一SPM尖端的位置和SPM样本上的样本参考位置的第一位置信息，以及 将第一位置信息存储在存储区域中。 在用第二SPM尖端替换第一SPM尖端之后，识别包括第二SPM尖端的位置和SPM样本上的样本参考位置的第二位置信息。 基于第一和第二位置信息在第二SPM尖端的位置和第一SPM尖端之间计算位移，并且平移第二SPM尖端或支撑SPM样本的平台以使第二SPM尖端与 第一个SPM尖端按照计算出的位移。
-
公开(公告)号：US20080147346A1
公开(公告)日：2008-06-19
申请号：US11852978
申请日：2007-09-10
申请人： Raymond K. Eby , Michael Nelson , Igor Touzov
发明人： Raymond K. Eby , Michael Nelson , Igor Touzov
IPC分类号： G01B21/16
CPC分类号： G01Q40/00 , Y10S977/854
摘要： A system and method for aligning prior patterning positions formed by a first SPM tip with a second SPM tip in combination with an SPM system includes identifying first location information that includes a location of the first SPM tip and a sample reference location on an SPM sample and storing the first location information in a storage area. After replacing the first SPM tip with the second SPM tip, second location information, which includes a location of the second SPM tip and the sample reference location on the SPM sample, is identified. Displacement is calculated between the location of the second SPM tip and the first SPM tip based on the first and second location information, and either the second SPM tip or a stage supporting the SPM sample is translated to align the second SPM tip with the location of the first SPM tip in accordance with the calculated displacement.
摘要翻译： 用于将由第一SPM尖端形成的先前图案形成位置与第二SPM尖端对准的系统和方法与SPM系统组合包括识别包括第一SPM尖端的位置和SPM样本上的样本参考位置的第一位置信息，以及 将第一位置信息存储在存储区域中。 在用第二SPM尖端替换第一SPM尖端之后，识别包括第二SPM尖端的位置和SPM样本上的样本参考位置的第二位置信息。 基于第一和第二位置信息在第二SPM尖端的位置和第一SPM尖端之间计算位移，并且平移第二SPM尖端或支撑SPM样本的平台以使第二SPM尖端与 第一个SPM尖端按照计算出的位移。
-
公开(公告)号：US08043652B2
公开(公告)日：2011-10-25
申请号：US11852978
申请日：2007-09-10
申请人： Raymond K. Eby , Michael Nelson , Igor Touzov
发明人： Raymond K. Eby , Michael Nelson , Igor Touzov
CPC分类号： G01Q40/00 , Y10S977/854
摘要： A system and method for aligning prior patterning positions formed by a first SPM tip with a second SPM tip in combination with an SPM system includes identifying first location information that includes a location of the first SPM tip and a sample reference location on an SPM sample and storing the first location information in a storage area. After replacing the first SPM tip with the second SPM tip, second location information, which includes a location of the second SPM tip and the sample reference location on the SPM sample, is identified. Displacement is calculated between the location of the second SPM tip and the first SPM tip based on the first and second location information, and either the second SPM tip or a stage supporting the SPM sample is translated to align the second SPM tip with the location of the first SPM tip in accordance with the calculated displacement.
摘要翻译： 用于将由第一SPM尖端形成的先前图案形成位置与第二SPM尖端对准的系统和方法与SPM系统组合包括识别包括第一SPM尖端的位置和SPM样本上的样本参考位置的第一位置信息，以及 将第一位置信息存储在存储区域中。 在用第二SPM尖端替换第一SPM尖端之后，识别包括第二SPM尖端的位置和SPM样本上的样本参考位置的第二位置信息。 基于第一和第二位置信息在第二SPM尖端的位置和第一SPM尖端之间计算位移，并且平移第二SPM尖端或支撑SPM样本的平台以使第二SPM尖端与 第一个SPM尖端按照计算出的位移。
-
公开(公告)号：US07060977B1
公开(公告)日：2006-06-13
申请号：US10375060
申请日：2003-02-28
CPC分类号： G03F7/0002 , G01Q40/02 , G01Q80/00
摘要： A system and method for calibration of nanolithography includes fabricating a nanoscale test pattern, measuring a parameter of the test pattern, and calculating a calibration coefficient from the measured parameter. The calculated calibration coefficient is then used for nanolithography. Nanolithography can be carried out with nanoscopic tips depositing patterning compounds on a substrate.
摘要翻译： 用于纳米光刻的校准的系统和方法包括制造纳米尺度测试图案，测量测试图案的参数，以及根据测量的参数计算校准系数。 然后将计算的校准系数用于纳米光刻。 纳米光刻可以用纳米尖端沉积图案化化合物在基底上进行。
-
-
-
搜索结果
4 条记录 (耗时 0.016 秒)