公开(公告)号：US06730920B2

公开(公告)日：2004-05-04

申请号：US09758172

申请日：2001-01-12

申请人： Rogier H. M. Groeneveld ,  Erik R. Loopstra ,  Jacobus Burghoom ,  Leon M. Levasier ,  Alexander Straaijer

发明人： Rogier H. M. Groeneveld ,  Erik R. Loopstra ,  Jacobus Burghoom ,  Leon M. Levasier ,  Alexander Straaijer

IPC分类号： G03B2752

CPC分类号： G03F9/7019 ,  F41H7/04 ,  G03F9/7011 ,  G03F9/7034

摘要： In a lithographic apparatus, a reference grating 11 mounted on the wafer table WT is illuminated with a measurement beam 20 incident in a direction independent of wafer table tilt. The diffraction orders are detected by detector 30 and used to determine the lateral shift in the wafer table resulting from a non-zero Abbe arm, and hence the Abbe arm, for calibration purposes. The detector 30 may be a detector also used for off-axis alignment of the wafer and wafer table.

摘要翻译： 在光刻设备中，安装在晶片台WT上的参考光栅11用独立于晶片台倾斜的方向入射的测量光束20照射。 衍射级由检测器30检测，用于确定由非零的阿贝臂以及因此用于校准目的的阿贝臂产生的晶片台中的横向偏移。 检测器30可以是也用于晶片和晶片台的离轴对准的检测器。