公开(公告)号：US20160209741A1

公开(公告)日：2016-07-21

申请号：US14735896

申请日：2015-06-10

申请人： SK hynix Inc.

发明人： In Hwan LEE ,  Sun Young KOO ,  Seo Min KIM ,  Yong Dae KIM ,  Jin Soo KIM ,  Byung Hoon LEE ,  Mi Jeong LIM ,  Chang Moon LIM ,  Tae Joong HA ,  Yoon Suk HYUN

IPC分类号： G03F1/24

CPC分类号： G03F1/24 ,  G03F1/26

摘要： A reflective mask includes a first reflection layer disposed on a mask substrate, a first capping layer disposed on the first reflection layer, a second reflection pattern disposed on a portion of the first capping layer, and a phase shifter disposed between the second reflection pattern and the first capping layer to cause a phase difference between a first light reflecting from the first reflection layer and a second light reflecting from the second reflection pattern. Related methods are also provided.

摘要翻译： 反射掩模包括设置在掩模基板上的第一反射层，设置在第一反射层上的第一覆盖层，设置在第一覆盖层的一部分上的第二反射图案，以及设置在第二反射图案与第二反射图案之间的移相器 所述第一覆盖层引起从所述第一反射层反射的第一光和从所述第二反射图案反射的第二光之间的相位差。 还提供了相关方法。