公开(公告)号：US08968970B2

公开(公告)日：2015-03-03

申请号：US13719910

申请日：2012-12-19

Applicant: Samsung Electronics Co., Ltd.

Inventor： Se-Gun Moon ,  Dong-Seok Nam ,  Hoon Kim

IPC: G03F1/26

CPC classification number: G03F1/26

Abstract: A phase shift mask having a first region and a second region in a transverse direction includes a transparent layer, a phase shift pattern disposed in the first region, a transmittance control layer pattern disposed in the second region, and a shading layer pattern disposed on the transmittance control layer pattern. The phase shift pattern has a first pattern including a transparent material and a second pattern including metal. The phase shift mask may prevent haze effects through a cleaning process using an alkaline cleaning solution.

Abstract translation: 具有第一区域和第二区域的相移掩模包括透明层，设置在第一区域中的相移图案，设置在第二区域中的透射率控制层图案，以及设置在第二区域上的遮光层图案 透光控制层图案。 相移图案具有包括透明材料的第一图案和包括金属的第二图案。 相移掩模可以通过使用碱性清洁溶液的清洁过程来防止雾度效应。