公开(公告)号：US08859190B1

公开(公告)日：2014-10-14

申请号：US14018058

申请日：2013-09-04

Applicant: Sandia Corporation

Inventor： Shawn M. Dirk ,  Ross Stefan Johnson ,  Robert Boye ,  Michael R. Descour ,  William C. Sweatt ,  David R. Wheeler ,  Bryan James Kaehr

IPC: G03F7/26 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F7/001 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/70375

Abstract: Novel photo-writable and thermally switchable polymeric materials exhibit a refractive index change of Δn≧1.0 when exposed to UV light or heat. For example, lithography can be used to convert a non-conjugated precursor polymer to a conjugated polymer having a higher index-of-refraction. Further, two-photon lithography can be used to pattern high-spatial frequency structures.

Abstract translation: 新型可写光热可切换聚合材料在暴露于紫外光或热时表现出＆Dgr;n≥1.0的折射率变化。 例如，可以使用光刻法将非共轭前体聚合物转化为具有较高折射率的共轭聚合物。 此外，双光子光刻可用于对高空间频率结构进行图案化。