公开(公告)号：US20070093071A1

公开(公告)日：2007-04-26

申请号：US11605584

申请日：2006-11-27

申请人： Steven Verhaverbeke ,  J Truman ,  Christopher Lane ,  Sasson Somekh

发明人： Steven Verhaverbeke ,  J Truman ,  Christopher Lane ,  Sasson Somekh

IPC分类号： H01L21/465

CPC分类号： H01L21/67207 ,  G03F7/16 ,  H01L21/67115 ,  H01L21/67161 ,  H01L21/67173 ,  H01L21/67184 ,  H01L21/6719 ,  Y10S414/135 ,  Y10S414/141 ,  Y10S438/905

摘要： A method of a single wafer wet/dry cleaning apparatus comprising: a transfer chamber having a wafer handler contained therein; a first single wafer wet cleaning chamber directly coupled to the transfer chamber; and a first single wafer ashing chamber directly coupled to the transfer chamber.

摘要翻译： 一种单晶片湿式/干式清洗设备的方法，包括：一个传送室，其中包含一个晶片处理器; 直接耦合到传送室的第一单晶片湿清洁室; 以及直接耦合到传送室的第一单个晶片灰化室。