公开(公告)号：US20070286954A1

公开(公告)日：2007-12-13

申请号：US11451916

申请日：2006-06-13

申请人： Sum-Yee Tang ,  Hsin Chiao Luan ,  Kwangduk Douglas Lee ,  Bok Hoen Kim

发明人： Sum-Yee Tang ,  Hsin Chiao Luan ,  Kwangduk Douglas Lee ,  Bok Hoen Kim

IPC分类号： C23C16/00 ,  H05H1/24

CPC分类号： C23C16/26 ,  C23C16/509

摘要： Methods for low temperature deposition an amorphous carbon film with improved step coverage are provided. In one embodiment, the method includes providing a substrate in a process chamber, flowing a gas mixture including at least a hydrocarbon compound and an inert gas into the process chamber, wherein the hydrocarbon compound has greater than 5 carbon atoms, maintaining the substrate temperature at a range below 450 degrees Celsius, and depositing an amorphous carbon film on the substrate.

摘要翻译： 提供了具有改善的台阶覆盖率的低温沉积方法。 在一个实施方案中，该方法包括在处理室中提供衬底，将包含至少一种烃化合物和惰性气体的气体混合物流入该处理室，其中烃化合物具有大于5个碳原子，将衬底温度保持在 在450摄氏度以下的范围内，并且在衬底上沉积无定形碳膜。