公开(公告)号：US20060228569A1

公开(公告)日：2006-10-12

申请号：US10567567

申请日：2004-08-06

申请人： Tadaaki Kojima ,  Hiroyasu Taguchi

发明人： Tadaaki Kojima ,  Hiroyasu Taguchi

IPC分类号： B32B15/04 ,  B05D1/18 ,  C25D3/12

CPC分类号： B24C1/06 ,  B24C1/086 ,  C23C18/1651 ,  C23C18/1653 ,  C23C18/1662 ,  C23C18/1689 ,  C23C18/1696 ,  C23C18/1806 ,  C23C18/1834 ,  C23C18/1855 ,  C23C18/1882 ,  C23C18/2013 ,  C23C18/22 ,  C23C18/32 ,  C23C22/68 ,  C23C28/321 ,  C23C28/322 ,  C23C28/34 ,  C23C28/345 ,  C25D5/34 ,  C25D5/36 ,  C25D5/44 ,  C25D5/48 ,  C25D15/00 ,  C25D15/02 ,  Y10T428/31678

摘要： A method for producing a substrate with black film is provided, comprising forming a dull plating film on a surface of a substrate, forming an electroless plating film containing a sulfur or nitrogen compound on the surface of the plating film, and forming a black film on the surface of the electroless plating film. This substrate with black film is used for devices which generate heat due to sliding or friction or generate/accumulate heat due to a chemical reaction, such as semiconductor device, vacuum device, rotating device and heat exchanger, and the black film has excellent heat radiating properties with an emissivity of 0.8 or more. Also, this substrate with black film has high corrosion resistance against halogen-type corrosive gases and exhibits excellent release gas properties and corrosion resistance in vacuum devices.

摘要翻译： 提供一种用黑色膜制造衬底的方法，包括在衬底的表面上形成钝的镀膜，在镀膜的表面上形成含有硫或氮化合物的化学镀膜，并在其上形成黑色膜 化学镀膜的表面。 这种具有黑色膜的基板用于由于滑动或摩擦而产生热量或由于化学反应产生/积聚的装置，例如半导体装置，真空装置，旋转装置和热交换器，并且黑色膜具有优异的散热性 发射率为0.8以上的性质。 此外，这种具有黑色膜的基板对卤素型腐蚀性气体具有高耐腐蚀性，并且在真空装置中表现出优异的脱模气体性能和耐腐蚀性。