公开(公告)号：US20050032997A1

公开(公告)日：2005-02-10

申请号：US10714052

申请日：2003-11-14

申请人： Ting-Yu Lee ,  Choa-Ying Yu ,  Meei-Yu Hsu ,  Shian-Jy Wang ,  Ching Ting ,  Kuo-Chen Shih

发明人： Ting-Yu Lee ,  Choa-Ying Yu ,  Meei-Yu Hsu ,  Shian-Jy Wang ,  Ching Ting ,  Kuo-Chen Shih

IPC分类号： C08F2/00 ,  C08F2/38 ,  C08F220/10

CPC分类号： C08F220/10 ,  C08F2/38

摘要： A resin with low polydispersity index and a process for preparing the same. The process includes polymerizing at least one monomer with an initiator and a chain transfer reagent, wherein the monomer is an acrylate monomer having at least one ethylenically unsaturated bonds or norbornene derivatives. Furthermore, a photoresist composition containing the resin composition according to the present invention can increase pattern resolution in lithography process.

摘要翻译： 低分散指数的树脂及其制备方法。 该方法包括使至少一种单体与引发剂和链转移试剂聚合，其中单体是具有至少一个烯属不饱和键或降冰片烯衍生物的丙烯酸酯单体。 此外，含有本发明的树脂组合物的光致抗蚀剂组合物可以提高光刻工艺中的图案分辨率。