公开(公告)号：US07031428B2

公开(公告)日：2006-04-18

申请号：US10779516

申请日：2004-02-13

申请人： Udo Dinger ,  Frank Eisert ,  Martin Weiser ,  Konrad Knapp ,  Ina Mitra ,  Hans Morian

发明人： Udo Dinger ,  Frank Eisert ,  Martin Weiser ,  Konrad Knapp ,  Ina Mitra ,  Hans Morian

IPC分类号： G21K5/04 ,  G21K1/06 ,  C03C10/00

CPC分类号： G21K1/06 ,  C03C10/0009 ,  C03C19/00 ,  C03C23/0055 ,  C03C2204/08

摘要： There is provided a substrate material for an optical component for X-rays of wavelength λR. The substrate includes (a) a glass phase made of amorphous material having a positive coefficient of thermal expansion, and (b) a crystal phase including microcrystallites having a negative coefficient of thermal expansion and a mean size of less than about 4 λR. The substrate material has a stoichiometric ratio of the crystal phase to the glass phase such that a coefficient of thermal expansion of the substrate material is less than about 5×10−6 K−1 in a temperature range of about 20 °C. to 100°C. The substrate material, following a surface treatment, has a high spatial frequency roughness (HSFR) of less than about λR/30 rms.

摘要翻译： 提供了用于波长λλX的X射线的光学部件的基板材料。 该基板包括（a）由具有正的热膨胀系数的非晶材料制成的玻璃相，和（b）包含具有负的热膨胀系数和平均尺寸小于约4λλ的微晶的结晶相， R 。 衬底材料具有晶相与玻璃相的化学计量比，使得衬底材料的热膨胀系数小于约5×10 -6 K -1 在约20℃的温度范围内。 至100℃。 在表面处理之后，衬底材料具有小于约λ/ 30 / 30rms的高空间频率粗糙度（HSFR）。