公开(公告)号：US09147033B2

公开(公告)日：2015-09-29

申请号：US14024533

申请日：2013-09-11

Applicant: United Microelectronics Corp.

Inventor： Jie Zhao ,  Chia-Ping Chen ,  Ching-Shu Lo ,  Hua-Biao Wu

IPC: G06F17/50 ,  G06F17/30

CPC classification number: G06F17/5081 ,  G03F1/38

Abstract: A method of making a photomask layout is provided. A graphic data of a photomask is provided. The graphic data includes at least one rectangular pattern. A correction step is performed to the graphic data by using a computer. The correction step includes adding a substantially ring-shaped pattern inside the rectangular pattern. A method of forming a photomask by using the photomask layout obtained by the said method is also provided. In an embodiment, the photomask is suitable for defining micro-lenses of a solid-state image sensor.

Abstract translation: 提供了制作光掩模布局的方法。 提供光掩模的图形数据。 图形数据包括至少一个矩形图案。 通过使用计算机对图形数据执行校正步骤。 校正步骤包括在矩形图案内部添加大致环形图案。 还提供了通过使用通过所述方法获得的光掩模布局形成光掩模的方法。 在一个实施例中，光掩模适用于定义固态图像传感器的微透镜。

公开(公告)号：US20150074620A1

公开(公告)日：2015-03-12

申请号：US14024533

申请日：2013-09-11

Applicant: United Microelectronics Corp.

Inventor： Jie Zhao ,  Chia-Ping Chen ,  Ching-Shu Lo ,  Hua-Biao Wu

IPC: G06F17/50

CPC classification number: G06F17/5081 ,  G03F1/38

Abstract: A method of making a photomask layout is provided. A graphic data of a photomask is provided. The graphic data includes at least one rectangular pattern. A correction step is performed to the graphic data by using a computer. The correction step includes adding a substantially ring-shaped pattern inside the rectangular pattern. A method of forming a photomask by using the photomask layout obtained by the said method is also provided. In an embodiment, the photomask is suitable for defining micro-lenses of a solid-state image sensor.

Abstract translation: 提供了制作光掩模布局的方法。 提供光掩模的图形数据。 图形数据包括至少一个矩形图案。 通过使用计算机对图形数据执行校正步骤。 校正步骤包括在矩形图案内部添加大致环形图案。 还提供了通过使用通过所述方法获得的光掩模布局形成光掩模的方法。 在一个实施例中，光掩模适用于定义固态图像传感器的微透镜。