公开(公告)号：US20080318139A1

公开(公告)日：2008-12-25

申请号：US12144330

申请日：2008-06-23

申请人： Uwe Dersch ,  Haiko Rolff ,  Pavel Nesladek

发明人： Uwe Dersch ,  Haiko Rolff ,  Pavel Nesladek

IPC分类号： G03F1/00

CPC分类号： G03F1/24 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F1/22

摘要： Mask blanks of the invention include an absorber layer, an anti-reflective layer disposed over the absorber layer, and a hard mask layer disposed over the anti-reflective layer. The absorber layer is absorbent at an exposure wavelength and is reflective at an inspection wavelength. The inspection wavelength is greater than or equal to the exposure wavelength. The anti-reflective layer is not reflective at the inspection wavelength. None of the main constituents of the hard mask layer has an atomic number greater than 41. The mask blank may be a reflective EUVL mask blank or a transparent mask blank.

摘要翻译： 本发明的掩模毛坯包括吸收层，设置在吸收层上的抗反射层，以及设置在抗反射层上的硬掩模层。 吸收层在曝光波长处是吸收剂，并且在检测波长处是反射性的。 检查波长大于或等于曝光波长。 抗反射层在检测波长下不反射。 硬掩模层的主要成分都不具有大于41的原子序数。掩模毛坯可以是反射型EUVL掩模毛坯或透明掩模毛坯。

公开(公告)号：US20070207394A1

公开(公告)日：2007-09-06

申请号：US11713962

申请日：2007-03-05

申请人： Uwe Dersch ,  Henning Haffner

发明人： Uwe Dersch ,  Henning Haffner

IPC分类号： G03F1/00 ,  G03C5/00

CPC分类号： G03F7/70616 ,  G03F1/36 ,  G03F1/44 ,  G03F7/70433

摘要： A test pattern or set of patterns, a method of evaluating the transfer properties of the pattern, and a method of determining a parameter of a transfer process (e.g., imaging process) making use of the test pattern is provided. With the test pattern, the impact of line edge roughness on a transferred pattern may be analyzed. For example, the test pattern may be based upon a lines/spaces pattern, wherein periodic structures having a well-defined period and amplitude are adjacent to the lines. A photomask is provided with the test pattern and an image of the pattern is obtained. Edges of the image are determined and, therefrom, a set of edge position data are obtained. Edge position data are fitted to a straight line to determine edge position residuals. An amplitude spectrum is calculated dependent upon spatial frequencies to obtain a amplitude/spatial frequency relationship. A ratio of determined maximum is formed.

摘要翻译： 提供了一种测试图案或一组图案，评估图案的转印特性的方法以及使用该测试图案确定转印处理（例如，成像处理）的参数的方法。 利用测试图案，可以分析线边缘粗糙度对转移图案的影响。 例如，测试图案可以基于线/间隔图案，其中具有明确定义的周期和幅度的周期结构与线相邻。 光掩模被提供有测试图案并且获得图案的图像。 确定图像的边缘，由此获得一组边缘位置数据。 边缘位置数据拟合到一条直线上以确定边缘位置残差。 根据空间频率计算振幅谱，以获得幅度/空间频率关系。 形成确定的最大值的比率。

公开(公告)号：US07354684B2

公开(公告)日：2008-04-08

申请号：US11713962

申请日：2007-03-05

申请人： Uwe Dersch ,  Henning Haffner

发明人： Uwe Dersch ,  Henning Haffner

IPC分类号： G03F9/00 ,  G03C5/00

CPC分类号： G03F7/70616 ,  G03F1/36 ,  G03F1/44 ,  G03F7/70433

摘要： A test pattern or set of patterns, a method of evaluating the transfer properties of the pattern, and a method of determining a parameter of a transfer process (e.g., imaging process) making use of the test pattern is provided. With the test pattern, the impact of line edge roughness on a transferred pattern may be analyzed. For example, the test pattern may be based upon a lines/spaces pattern, wherein periodic structures having a well-defined period and amplitude are adjacent to the lines. A photomask is provided with the test pattern and an image of the pattern is obtained. Edges of the image are determined and, therefrom, a set of edge position data are obtained. Edge position data are fitted to a straight line to determine edge position residuals. An amplitude spectrum is calculated dependent upon spatial frequencies to obtain a amplitude/spatial frequency relationship. A ratio of determined maximum is formed.

摘要翻译： 提供了一种测试图案或一组图案，评估图案的转印特性的方法以及使用该测试图案确定转印处理（例如，成像处理）的参数的方法。 利用测试图案，可以分析线边缘粗糙度对转移图案的影响。 例如，测试图案可以基于线/间隔图案，其中具有明确定义的周期和幅度的周期结构与线相邻。 光掩模被提供有测试图案并且获得图案的图像。 确定图像的边缘，由此获得一组边缘位置数据。 边缘位置数据拟合到一条直线上以确定边缘位置残差。 根据空间频率计算振幅谱，以获得幅度/空间频率关系。 形成确定的最大值的比率。