公开(公告)号：US07416819B2

公开(公告)日：2008-08-26

申请号：US11424500

申请日：2006-06-15

申请人： Walter Steinberg ,  Gerhard Schlueter ,  Michael Ferber

发明人： Walter Steinberg ,  Gerhard Schlueter ,  Michael Ferber

IPC分类号： G03F9/00

CPC分类号： G02B21/0016 ,  G03F1/36 ,  G03F1/44

摘要： A test mask 1 for microscopy is disclosed, which is formed on a substrate of quartz. The test mask 1 comprises a multiplicity of sub-masks 4, which are implemented such that each sub-mask 4 comprises structures which differ within a sub-mask 4 with regard to form and size. In addition, the structures of the individual sub-masks 4 are designed for optical or particle optical measurements according to size.

摘要翻译： 公开了一种用于显微镜的测试掩模1，其形成在石英基片上。 测试掩模1包括多个子掩模4，其被实现为使得每个子掩模4包括关于形式和尺寸在子掩模4内不同的结构。 此外，各个子掩模4的结构被设计为根据尺寸的光学或粒子光学测量。

公开(公告)号：US20070031739A1

公开(公告)日：2007-02-08

申请号：US11424500

申请日：2006-06-15

申请人： Walter Steinberg ,  Gerhard Schlueter ,  Michael Ferber

发明人： Walter Steinberg ,  Gerhard Schlueter ,  Michael Ferber

IPC分类号： G03F1/00

CPC分类号： G02B21/0016 ,  G03F1/36 ,  G03F1/44

摘要： A test mask 1 for microscopy is disclosed, which is formed on a substrate of quartz. The test mask 1 comprises a multiplicity of sub-masks 4, which are implemented such that each sub-mask 4 comprises structures which differ within a sub-mask 4 with regard to form and size. In addition, the structures of the individual sub-masks 4 are designed for optical or particle optical measurements according to size.

摘要翻译： 公开了一种用于显微镜的测试掩模1，其形成在石英基片上。 测试掩模1包括多个子掩模4，其被实现为使得每个子掩模4包括关于形式和尺寸在子掩模4内不同的结构。 此外，各个子掩模4的结构被设计为根据尺寸进行光学或粒子光学测量。