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    Test mask for optical and electron optical systems
    1.
    发明授权
    Test mask for optical and electron optical systems 失效
    光学和电子光学系统的测试掩模

    公开(公告)号：US07416819B2

    公开(公告)日：2008-08-26

    申请号：US11424500

    申请日：2006-06-15

    申请人： Walter Steinberg ,  Gerhard Schlueter ,  Michael Ferber

    发明人： Walter Steinberg ,  Gerhard Schlueter ,  Michael Ferber

    IPC分类号： G03F9/00

    CPC分类号： G02B21/0016 ,  G03F1/36 ,  G03F1/44

    摘要： A test mask 1 for microscopy is disclosed, which is formed on a substrate of quartz. The test mask 1 comprises a multiplicity of sub-masks 4, which are implemented such that each sub-mask 4 comprises structures which differ within a sub-mask 4 with regard to form and size. In addition, the structures of the individual sub-masks 4 are designed for optical or particle optical measurements according to size.

    摘要翻译： 公开了一种用于显微镜的测试掩模1，其形成在石英基片上。 测试掩模1包括多个子掩模4，其被实现为使得每个子掩模4包括关于形式和尺寸在子掩模4内不同的结构。 此外，各个子掩模4的结构被设计为根据尺寸的光学或粒子光学测量。

    Measuring system for structures on a substrate for semiconductor manufacture
    2.
    发明授权
    Measuring system for structures on a substrate for semiconductor manufacture 有权
    用于半导体制造的衬底上的结构的测量系统

    公开(公告)号：US07982950B2

    公开(公告)日：2011-07-19

    申请号：US12113227

    申请日：2008-05-01

    申请人： Hans-Artur Boesser ,  Walter Steinberg

    发明人： Hans-Artur Boesser ,  Walter Steinberg

    IPC分类号： G02B21/06 ,  G02B21/00

    CPC分类号： G01B11/24 ,  G02B5/1857

    摘要： A measuring system is disclosed with enhanced resolution for periodic structures on a substrate for semiconductor manufacture. Aperture structures of varying geometries are provided in the illumination beam path. The aperture structures differ regarding the transmission characteristics of light, and which adjust the intensity distribution of the diffraction orders in the imaging pupil of the optical system.

    摘要翻译： 公开了一种测量系统，其具有用于半导体制造的衬底上的周期性结构的增强的分辨率。 在照明光束路径中提供具有不同几何形状的光圈结构。 孔结构关于光的透射特性不同，并且调节光学系统的成像光瞳中的衍射级的强度分布。

    Test mask for optical and electron optical systems.
    5.
    发明申请
    Test mask for optical and electron optical systems. 失效
    光学和电子光学系统的测试掩模。

    公开(公告)号：US20070031739A1

    公开(公告)日：2007-02-08

    申请号：US11424500

    申请日：2006-06-15

    申请人： Walter Steinberg ,  Gerhard Schlueter ,  Michael Ferber

    发明人： Walter Steinberg ,  Gerhard Schlueter ,  Michael Ferber

    IPC分类号： G03F1/00

    CPC分类号： G02B21/0016 ,  G03F1/36 ,  G03F1/44

    摘要： A test mask 1 for microscopy is disclosed, which is formed on a substrate of quartz. The test mask 1 comprises a multiplicity of sub-masks 4, which are implemented such that each sub-mask 4 comprises structures which differ within a sub-mask 4 with regard to form and size. In addition, the structures of the individual sub-masks 4 are designed for optical or particle optical measurements according to size.

    摘要翻译： 公开了一种用于显微镜的测试掩模1，其形成在石英基片上。 测试掩模1包括多个子掩模4，其被实现为使得每个子掩模4包括关于形式和尺寸在子掩模4内不同的结构。 此外，各个子掩模4的结构被设计为根据尺寸进行光学或粒子光学测量。

    Apparatus and method for improving measuring accuracy in the determination of structural data
    6.
    发明申请
    Apparatus and method for improving measuring accuracy in the determination of structural data 审中-公开
    用于提高结构数据确定测量精度的装置和方法

    公开(公告)号：US20060274934A1

    公开(公告)日：2006-12-07

    申请号：US11405937

    申请日：2006-04-18

    申请人： Hans-Artur Boesser ,  Michael Heiden ,  Walter Steinberg

    发明人： Hans-Artur Boesser ,  Michael Heiden ,  Walter Steinberg

    IPC分类号： G06K9/00

    CPC分类号： G01B9/04 ,  G02B21/365 ,  G03F1/84 ,  G03F7/70625

    摘要： A method and an apparatus are disclosed, whereby an improvement of the measuring accuracy in the determination of structural data is facilitated. A first detector unit (15a) is provided for receiving the light reflected or transmitted by structures applied on the microscopic component (2). A second detector (15b) is provided for detecting the illumination intensity emitted by the at least one light source, and a computer (18) for determining the structural data from the light received by the first detector unit (15a) and the second detector (15).

    摘要翻译： 公开了一种方法和装置，由此有助于提高结构数据的确定中的测量精度。 提供第一检测器单元（15a）用于接收由施加在微观组件（2）上的结构反射或透射的光。 提供第二检测器（15b），用于检测由至少一个光源发射的照射强度;以及计算机（18），用于根据由第一检测器单元（15a）接收的光确定结构数据，第二检测器 检测器（15）。

    DEVICE AND METHOD FOR IMPROVING THE MEASUREMENT ACCURACY IN AN OPTICAL CD MEASUREMENT SYSTEM
    7.
    发明申请
    DEVICE AND METHOD FOR IMPROVING THE MEASUREMENT ACCURACY IN AN OPTICAL CD MEASUREMENT SYSTEM 审中-公开
    用于提高光盘测量系统中测量精度的装置和方法

    公开(公告)号：US20090015833A1

    公开(公告)日：2009-01-15

    申请号：US12127386

    申请日：2008-05-27

    申请人： Michael Heiden ,  Walter Steinberg

    发明人： Michael Heiden ,  Walter Steinberg

    IPC分类号： G01J4/00 ,  G01B11/14

    CPC分类号： G01B9/04 ,  G03F1/84

    摘要： A method and a device are disclosed, with which an improvement of the measurement accuracy for the determination of structure data is possible. There is provided a device having a support table (4) movable in the X-coordinate direction and the Y-coordinate direction, on which an additional holder (6) for holding a substrate (2) is carried, having at least one light source (16; 20), at least one objective (8) and a first detector unit (15a) receiving the light transmitted or reflected by structures applied to the substrate (2). There is further provided a polarization means (30a; 30b) associated with the light source (16; 20) and/or located in an optical imaging path (10; 12).

    摘要翻译： 公开了一种方法和装置，用于确定结构数据的测量精度的改进是可能的。 提供了一种装置，其具有能够沿着X坐标方向和Y坐标方向移动的支撑台（4），在其上承载用于保持基板（2）的附加保持器（6），具有至少一个光源 （16; 20），至少一个物镜（8）和第一检测器单元（15a），其接收由施加到所述基底（2）的结构透射或反射的光。 还提供了与光源（16; 20）相关联和/或位于光学成像路径（10; 12）中的偏振装置（30a; 30b）。