公开(公告)号：US20100315612A1

公开(公告)日：2010-12-16

申请号：US12774284

申请日：2010-05-05

申请人： Wilhelmus Petrus DE BOEIJ ,  Leon Martin Levasier

发明人： Wilhelmus Petrus DE BOEIJ ,  Leon Martin Levasier

IPC分类号： G03B27/54

CPC分类号： G03B27/54 ,  G03F7/7025

摘要： A radiation beam modification apparatus for controlling a property of a beam of radiation in a lithographic apparatus includes a flexible sheet provided with a plurality of apertures, and a positioning apparatus comprising a first rotatable member and a second rotatable member, wherein a first end portion of the flexible sheet is coupled to the first rotatable member, a second end portion of the flexible sheet is coupled to the second rotatable member and a central portion of the flexible sheet extends between the first rotatable member and the second rotatable member. The apertures may be used to control the numerical aperture of a projection system of a lithographic apparatus.

摘要翻译： 用于控制光刻设备中的辐射束的性质的辐射束修改设备包括设置有多个孔的柔性片和包括第一可旋转构件和第二可旋转构件的定位装置，其中第一端部 柔性片联接到第一可旋转构件，柔性片的第二端部联接到第二可旋转构件，并且柔性片的中心部分在第一可旋转构件和第二可旋转构件之间延伸。 孔可用于控制光刻设备的投影系统的数值孔径。