公开(公告)号：US20070248749A1

公开(公告)日：2007-10-25

申请号：US11407720

申请日：2006-04-19

申请人： Xing-Cai Guo ,  Yun-Lin Hsiao ,  Thomas Karis ,  Bruno Marchon ,  Ullal Nayak ,  Bing Yen

发明人： Xing-Cai Guo ,  Yun-Lin Hsiao ,  Thomas Karis ,  Bruno Marchon ,  Ullal Nayak ,  Bing Yen

IPC分类号： B05D5/12

CPC分类号： G11B5/8408 ,  G11B5/725

摘要： The present invention provides a novel method for reducing pad burnish damages on magnetic recording media. The method of the present invention reduces burnish damage and increases glide yield without compromising disk flyability, durability and general quality.

摘要翻译： 本发明提供了一种减少磁记录介质上的抛光损伤的新方法。 本发明的方法减少了抛光损伤并增加了滑移产量，而不损害盘的可飞性，耐久性和一般质量。

公开(公告)号：US08435654B2

公开(公告)日：2013-05-07

申请号：US12208095

申请日：2008-09-10

申请人： Bing Yen ,  Jim Hennessey ,  Eric Freeman ,  Kim Yang Lee ,  David S. Kuo ,  Mark Ostrowski

发明人： Bing Yen ,  Jim Hennessey ,  Eric Freeman ,  Kim Yang Lee ,  David S. Kuo ,  Mark Ostrowski

IPC分类号： G11B5/66

CPC分类号： G11B5/84 ,  B82Y10/00 ,  G11B5/743 ,  G11B5/82 ,  G11B5/855

摘要： The invention relates to bit patterned recording media having a stop layer for chemical mechanical polishing. One embodiment of the present invention is a method of manufacturing a magnetic recording medium comprising the step of planarizing by chemical mechanical polishing until the stop layer is reached. The present invention also provides a magnetic recording medium having a stop layer.

摘要翻译： 本发明涉及具有用于化学机械抛光的停止层的位图形记录介质。 本发明的一个实施例是一种制造磁记录介质的方法，包括通过化学机械抛光进行平面化的步骤，直到达到停止层。 本发明还提供一种具有停止层的磁记录介质。

公开(公告)号：US08771529B1

公开(公告)日：2014-07-08

申请号：US12894640

申请日：2010-09-30

申请人： Kim Yang Lee ,  Bing Yen ,  David Kuo ,  Koichi Wago ,  Shih-Fu Lee ,  Dieter Weller

发明人： Kim Yang Lee ,  Bing Yen ,  David Kuo ,  Koichi Wago ,  Shih-Fu Lee ,  Dieter Weller

IPC分类号： B44C1/22

CPC分类号： B29C59/022 ,  G03F7/0002

摘要： A method of imprint lithography includes imprinting a first pattern with a first template on a first substrate of a lithographic template. A second pattern is imprinted with a second template on the substrate of the lithographic template. The first pattern and the second pattern at least partially overlap, thus forming a third pattern. The third pattern is lithographically formed on a second substrate with the lithographic template. In an embodiment, the first pattern is a concentric line pattern formed by thin film deposition. In an embodiment, the second pattern is a radial line pattern. In an embodiment the first pattern and the second pattern may have line frequency increased.

摘要翻译： 压印光刻的方法包括在光刻模板的第一衬底上印刷具有第一模板的第一图案。 第二图案在光刻模板的基底上印有第二模板。 第一图案和第二图案至少部分重叠，从而形成第三图案。 第三图案在具有光刻模板的第二基板上光刻形成。 在一个实施例中，第一图案是通过薄膜沉积形成的同心线图案。 在一个实施例中，第二图案是径向线图案。 在一个实施例中，第一图案和第二图案可以具有增加的线频率。

公开(公告)号：US20070054153A1

公开(公告)日：2007-03-08

申请号：US11218702

申请日：2005-09-02

申请人： Qing Dai ,  Hoa Do ,  Min Xiao ,  Bing Yen

发明人： Qing Dai ,  Hoa Do ,  Min Xiao ,  Bing Yen

IPC分类号： G11B5/65

CPC分类号： G11B5/72 ,  G11B5/8408

摘要： A SiON overcoat for use on magnetic media for magnetic recording. The SiON overcoat is deposited by pulsed DC sputtering while applying a negative DC bias. The SiON overcoat is especially useful on perpendicular magnetic recording media because of its ability to deposit thinly and evenly on a rough, granular high coercivity recording media while maintaining excellent corrosion protection properties. A SiON overcoat can be applied less than 3 nm thick while still maintaining excellent mechanical and corrosion protection. The overcoat also has a very high density and water contact angle.

摘要翻译： 用于磁性介质磁记录的SiON外套。 通过脉冲DC溅射沉积SiON外涂层，同时施加负DC偏压。 SiON外涂层在垂直磁记录介质中特别有用，因为它能够在粗糙的颗粒状高矫顽力记录介质上薄薄均匀地沉积，同时保持优异的防腐蚀性能。 SiON外涂层可以施加小于3nm厚，同时仍然保持优异的机械和腐蚀保护。 外套也具有非常高的密度和水接触角。