公开(公告)号：US07589845B1

公开(公告)日：2009-09-15

申请号：US12057346

申请日：2008-03-27

申请人： Xinkang Tian ,  Manuel Madriaga ,  Ching-Ling Meng ,  Mihail Mihalov

发明人： Xinkang Tian ,  Manuel Madriaga ,  Ching-Ling Meng ,  Mihail Mihalov

IPC分类号： G01B11/02 ,  G01B11/24 ,  G06F19/00

CPC分类号： G01B11/02 ,  G01B11/24 ,  G03F7/70625

摘要： Provided is system and method for controlling a fabrication cluster using at least one parameter of a structure measured with an optical metrology system designed and configured to meet one or more signal criteria. The design of the optical metrology system is optimized by using collected signal data in comparison to set one or more signal criteria. In one embodiment, the optical metrology system is used for standalone systems. In another embodiment, the optical metrology system is integrated with a fabrication cluster in semiconductor manufacturing. At least one parameter determined from a signal measured using the optical metrology system is transmitted to a fabrication cluster. The at least one parameter is used to modify at least one process variable or equipment setting of the fabrication cluster.

摘要翻译： 提供了用于使用被设计和配置为满足一个或多个信号标准的光学测量系统测量的结构的至少一个参数来控制制造集群的系统和方法。 通过使用收集的信号数据来比较设置一个或多个信号标准来优化光学测量系统的设计。 在一个实施例中，光学测量系统用于独立系统。 在另一个实施例中，光学计量系统与半导体制造中的制造集成集成。 从使用光学测量系统测量的信号确定的至少一个参数被传送到制造集群。 至少一个参数用于修改制造集群的至少一个过程变量或设备设置。

公开(公告)号：US07742889B2

公开(公告)日：2010-06-22

申请号：US12057316

申请日：2008-03-27

申请人： Xinkang Tian ,  Manuel Madriaga ,  Ching-Ling Meng ,  Mihail Mihalov

发明人： Xinkang Tian ,  Manuel Madriaga ,  Ching-Ling Meng ,  Mihail Mihalov

IPC分类号： G06F19/00 ,  G01B11/24 ,  H01L21/66

CPC分类号： G01N21/956 ,  G01B2210/56

摘要： Provided is a method of designing an optical metrology system for measuring structures on a workpiece wherein the optical metrology system is configured to meet one or more signal criteria. The design of the optical metrology system is optimized by using collected signal data in comparison to the one or more signal criteria. In one embodiment, the optical metrology system is used for stand alone systems. In another embodiment, the optical metrology system is integrated with a fabrication cluster in semiconductor manufacturing.

摘要翻译： 提供了一种设计用于测量工件上的结构的光学测量系统的方法，其中光学测量系统被配置为满足一个或多个信号标准。 通过使用收集的信号数据与一个或多个信号标准相比较来优化光学测量系统的设计。 在一个实施例中，光学测量系统用于独立系统。 在另一个实施例中，光学计量系统与半导体制造中的制造集成集成。

公开(公告)号：US07734437B2

公开(公告)日：2010-06-08

申请号：US12057332

申请日：2008-03-27

申请人： Xinkang Tian ,  Manuel Madriaga ,  Ching-Ling Meng ,  Mihail Mihalov

发明人： Xinkang Tian ,  Manuel Madriaga ,  Ching-Ling Meng ,  Mihail Mihalov

IPC分类号： G06F19/00 ,  G01B11/14

CPC分类号： G01B11/24 ,  G01B2210/56 ,  G01N21/956

摘要： Provided is an apparatus for designing an optical metrology system for measuring structures on a workpiece wherein the optical metrology system is configured to meet one or more signal criteria. The design of the optical metrology system is optimized by using collected signal data in comparison to set one or more signal criteria. In one embodiment, the optical metrology system is used for stand alone systems. In another embodiment, the optical metrology system is integrated with a fabrication cluster in semiconductor manufacturing.

摘要翻译： 提供了一种用于设计用于测量工件上的结构的光学测量系统的设备，其中光学测量系统被配置为满足一个或多个信号标准。 通过使用收集的信号数据来比较设置一个或多个信号标准来优化光学测量系统的设计。 在一个实施例中，光学测量系统用于独立系统。 在另一个实施例中，光学计量系统与半导体制造中的制造集成集成。