公开(公告)号：US20120156882A1

公开(公告)日：2012-06-21

申请号：US13242331

申请日：2011-09-23

申请人： YOUNG-JAE LEE ,  KYOUNG JONG YOO ,  JIN SU KIM ,  JUN LEE ,  YONG IN LEE ,  JUNBO YOON ,  JEONGHO YEON ,  JOO-HYUNG LEE ,  JEONG OEN LEE

发明人： YOUNG-JAE LEE ,  KYOUNG JONG YOO ,  JIN SU KIM ,  JUN LEE ,  YONG IN LEE ,  JUNBO YOON ,  JEONGHO YEON ,  JOO-HYUNG LEE ,  JEONG OEN LEE

IPC分类号： H01L21/308

CPC分类号： H01L21/0337 ,  B82Y10/00 ,  H01L21/0338 ,  Y10S438/947

摘要： A method for fabricating a large-area nanoscale pattern includes: forming multilayer main thin films isolated by passivation layers; patterning a first main thin film to form a first main pattern; forming a first spacer pattern with respect to the first main pattern; and forming a second main pattern by transferring the first spacer pattern onto a second main thin film. By using multilayer main thin films isolated by different passivation films, spacer lithography capable of reducing a pattern pitch can be repetitively performed, and the pattern pitch is repetitively reduced without shape distortion after formation of micrometer-scale patterns, thereby forming nanometer-scale fine patterns uniformly over a wide area.

摘要翻译： 一种制造大面积纳米级图案的方法包括：形成由钝化层隔离的多层主薄膜; 图案化第一主薄膜以形成第一主图案; 相对于所述第一主图形形成第一间隔图案; 以及通过将第一间隔图案转印到第二主薄膜上而形成第二主图案。 通过使用由不同钝化膜分离的多层主薄膜，可以重复地进行能够减小图案间距的间隔光刻，并且在形成微米尺度图案之后，图案间距重复减小而没有形状变形，从而形成纳米级精细图案 均匀地在广泛的地区。