公开(公告)号：US20100178416A1

公开(公告)日：2010-07-15

申请号：US12729993

申请日：2010-03-23

申请人： Yoon-Ho KANG ,  Choon-Ho Park ,  Kyung-Ah Kim ,  Gil-Lae Kim ,  Chan-Seok Park ,  Seong-Gyu Kwon ,  Jang-Sub Kim ,  Byoung-Joo Kim

发明人： Yoon-Ho KANG ,  Choon-Ho Park ,  Kyung-Ah Kim ,  Gil-Lae Kim ,  Chan-Seok Park ,  Seong-Gyu Kwon ,  Jang-Sub Kim ,  Byoung-Joo Kim

IPC分类号： B05D5/06

CPC分类号： C09D11/36

摘要： An ink composition comprising dipropylene glycol monomethyl ether acetate (DPMA). For example, an ink composition for a color filter includes a binder material, a monomer material, a polymerization initiator, a pigment dispersion, and a solvent including dipropylene glycol monomethyl ether acetate (DPMA).

摘要翻译： 包含二丙二醇单甲醚乙酸酯（DPMA）的油墨组合物。 例如，用于滤色器的油墨组合物包括粘合剂材料，单体材料，聚合引发剂，颜料分散体和包含二丙二醇单甲醚乙酸酯（DPMA）的溶剂。

公开(公告)号：US20060063858A1

公开(公告)日：2006-03-23

申请号：US11229271

申请日：2005-09-15

申请人： Yoon-Ho Kang ,  Choon-Ho Park ,  Kyung-Ah Kim ,  Gil-Lae Kim ,  Chan-Seok Park ,  Seong-Gyu Kwon ,  Jang-Sub Kim ,  Byoung-Joo Kim

发明人： Yoon-Ho Kang ,  Choon-Ho Park ,  Kyung-Ah Kim ,  Gil-Lae Kim ,  Chan-Seok Park ,  Seong-Gyu Kwon ,  Jang-Sub Kim ,  Byoung-Joo Kim

IPC分类号： C03C17/00 ,  C09D11/00

CPC分类号： C09D11/36

摘要： An ink composition comprising dipropylene glycol monomethyl ether acetate (DPMA). For example, an ink composition for a color filter includes a binder material, a monomer material, a polymerization initiator, a pigment dispersion, and a solvent including dipropylene glycol monomethyl ether acetate (DPMA).

摘要翻译： 包含二丙二醇单甲醚乙酸酯（DPMA）的油墨组合物。 例如，用于滤色器的油墨组合物包括粘合剂材料，单体材料，聚合引发剂，颜料分散体和包含二丙二醇单甲醚乙酸酯（DPMA）的溶剂。

公开(公告)号：US07611826B2

公开(公告)日：2009-11-03

申请号：US12351398

申请日：2009-01-09

申请人： Seok-Yoon Yang ,  Gil-Lae Kim ,  Chan-Seok Park ,  Choon-Ho Park ,  Soo-Guy Rho

发明人： Seok-Yoon Yang ,  Gil-Lae Kim ,  Chan-Seok Park ,  Choon-Ho Park ,  Soo-Guy Rho

IPC分类号： G03F7/00 ,  G03F7/004

CPC分类号： G03F7/032 ,  G03F7/0007 ,  G03F7/0751 ,  Y10S430/106

摘要： The present invention relates to a new photosensitive resin composition capable of solubility control and a pattern formation method of a double-layer structure using the same, and more particularly to a photosensitive resin composition that can control the -value using a new photopolymerization initiator and lower layer hardener and that can control a film thickness according to the exposure energy without pattern breakup, even with low exposure energy. This photosensitive resin composition is useful for color filters and overcoating materials of LCD (liquid crystal display) manufacturing processes.

摘要翻译： 本发明涉及一种能够进行溶解度控制的新的感光性树脂组合物和使用该感光性树脂组合物的双层结构的图案形成方法，更具体地说，涉及可以控制 - 使用 新的光聚合引发剂和下层硬化剂，并且即使在低曝光能量下也可以根据曝光能量控制膜厚而无图案破裂。 该感光性树脂组合物可用于LCD（液晶显示）制造工艺的滤色器和外涂层材料。